鉅亨網編譯段智恆
《彭博》周四 (16 日) 報導,荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML-US) 相較於美國同業的估值溢價已降至近十年低點,顯示市場對其評價出現收斂,也引發外界關注其股價是否仍具上行空間。根據數據,艾司摩爾未來 12 個月本益比約為 37 倍,僅較應用材料 (AMAT-US) 高出約 17%,為 2014 年以來最小差距。
此外,艾司摩爾目前甚至較科林研發 (LRCX-US) 出現約 5% 的折價,為 14 年來首見,其估值亦略低於科磊 (KLAC-US)。分析人士指出,艾司摩爾長期憑藉在極紫外光 (EUV) 微影設備市場的壟斷地位,通常享有高於同業的估值溢價,如今卻幾乎與同業持平,顯示市場定價出現變化。
摩根大通 (JPM-US) 分析師指出,艾司摩爾目前估值「被低估」,並維持加碼評等,認為該公司憑藉其關鍵技術優勢,仍具長期成長潛力。艾司摩爾為全球唯一提供 EUV 微影設備的供應商,該設備是先進晶片製造不可或缺的核心技術。
儘管人工智慧 (AI) 帶動資料中心需求升溫,推升艾司摩爾股價今年以來上漲約 36%,但其美國同業漲幅更為顯著,應用材料與科林研發同期漲幅均超過 50%,使相對估值優勢縮小。不過,從絕對水準來看,艾司摩爾目前估值仍高於過去水準,其明年預估本益比約 31 倍,明顯高於過去五年平均的 22 倍。
值得注意的是,艾司摩爾近期上調全年營收預測,但股價反而下跌約 4.2%,市場認為主要反映投資人預期已高與持股過度集中。整體而言,艾司摩爾雖仍具技術領先優勢,但在同業追趕與市場預期升溫下,其估值溢價正面臨壓縮壓力。
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