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艾司摩爾AI需求旺到2030年!第三季獲利超預期、EUV設備產能吃緊

鉅亨網編譯莊閔棻

AI gen LogoAI新聞摘要
  • 1.ASML表示,部分客戶有意提前下單2029年至2030年設備,反映AI投資帶動半導體需求持續升溫。
  • 2.執行長指出,2027至2028年設備產能恐不足,正研擬擴產,力拚2028年增幅超越30%。
  • 3.ASML第三季淨利49.6億歐元,優於預期;全年營收估440億至450億歐元。

全球半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML-US) 指出,部分客戶已開始表達對2029年、甚至2030年下單採購關鍵半導體設備的興趣,顯示人工智慧(AI)投資熱潮帶動的晶片需求,正進一步延伸至未來數年。艾司摩爾第三季獲利優於市場預期,也為關注其長期成長動能的投資人帶來支撐。

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艾司摩爾AI需求旺到2030年!第三季獲利超預期、EUV設備產能吃緊(圖:Shutterstock)

根據《CNBC》報導,艾司摩爾執行長Christophe Fouquet在聲明中表示,客戶持續上修短期與中期設備需求預測,主要受到AI相關投資規模及持續時間預期的影響。

他進一步指出:「考慮到客戶對需求的掌握程度,部分客戶已表達有意向我們下訂2029年、甚至2030年的設備。」

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艾司摩爾是全球唯一能生產極紫外光(EUV)微影設備的公司。這類設備是製造最先進半導體的關鍵工具,台積電(2330-TW) 等晶片製造商仰賴相關技術推進先進製程,因此艾司摩爾的財報與訂單展望,一直是投資人觀察AI晶片需求的重要指標。

Fouquet也指出,艾司摩爾目前規劃在2027年與2028年提供的設備產能,仍不足以完全滿足客戶需求。公司正研究擴產方式,希望讓2028年的產能增幅超越先前預估的30%。

本季期間,全球兩大晶片製造商三星電子(005930KS) 與台積電均承諾採用艾司摩爾的高數值孔徑(High NA)極紫外光(EUV)微影設備。

High NA EUV是艾司摩爾的新一代設備,分析師認為,這項技術將是推動該公司未來成長的關鍵。

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今年7月,由於設備需求持續強勁,艾司摩爾上修全年銷售額及毛利率預測。該公司股價今年以來已上漲56%。

艾司摩爾週三(14日)縮小全年營收預測區間,並表示目前預估全年淨銷售額將介於440億至450億歐元(493億至504億美元)之間。先前預測區間的下限為430億歐元。

艾司摩爾也預估,第四季淨銷售額將介於142億至152億歐元之間,預測區間上限高於倫敦證券交易所集團(LSEG)分析師142億歐元的共識預估。

艾司摩爾第三季淨利達49.6億歐元,明顯高於LSEG預期的41億歐元;不過,單季淨銷售額為116.6億歐元,略低於LSEG預估的117.2億歐元。

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