極紫外光

12-22美股雷達

荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML-US) 周四 (21 日) 表示，第一套高數值孔徑極紫外光 (High NA EUV) 微影設備，已交貨給英特爾 (INTC-US)。這款最先進 EUV 曝光機每台價格超過 3 億美元，將幫助英特爾製造更小、更快的半導體。