EUV
美股雷達
比利時微電子研究中心 (imec) 今 (19) 日宣布，艾司摩爾 (ASML-US) EXE:5200 高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV) 微影系統順利到廠，藉由此次的策略里程碑，imec 進一步確立其在埃米時代扮演產業發展基地的關鍵地位，提供其全球夥伴生態系統提前取得新一代晶片微縮技術的空前機會。
比利時半導體研究機構 imec 周三 (18 日) 表示，已取得一台由荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML-US) 製造的 High NA 極紫外光 (EUV) 微影設備，價值約 4 億美元。這款設備全球僅有不到十台，被視為下一代晶片製造的重要關鍵設備，將協助產業推進更先進製程技術的研發與測試。
2026 年初，日本百年光學巨頭尼康 (Nikon) 發布 2025 財年預虧 850 億日元，創史上最大虧損紀錄，尤其令人觸目驚心的是，過去半年尼康光刻機僅賣出 9 台，且幾乎全為成熟製程設備，遠遜於艾司摩爾同期高端 EUV 光刻機 160 台出貨量，這一表現也反映出昔日霸主在半導體核心戰場的全面潰敗。
全球光刻機巨擘艾司摩爾 (ASML-US) 在創下 327 億歐元年度營收新高之際，卻陷入嚴重的人力資源困境，元月宣布裁員 1700 人，主要涉及荷蘭總部 1400 個職位和美國 300 個職位。此舉正值艾司摩爾啟動重組計劃，意在精簡技術與 IT 部門管理層級。
隨著 AI 投資熱潮席捲全球科技業，一個關鍵問題正引發業界關注：在資本、技術、資源不斷湧入的背景下，真正限制 AI 算力擴張的環節究竟是什麼？半導體分析機構 SemiAnalysis 創辦人 Dylan Patel 在一場播客訪談中給出答案。
台股新聞
家登 (3680-TW) 今 (10) 日公佈 2 月營收 5.7 億元，月減 10.12%，年增 24.84%，累積前 2 月營收 12.04 億元，年成長 42.29%；儘管本月出貨天數少，受惠產能滿載，第一季淡季不淡，母公司及子公司同步成長，帶動前 2 月營收年增 42%。
大陸政經
中國全國人民代表大會召開之際，《南華早報》報導指出，中國多家半導體龍頭企業高管與學界人士聯名發文，呼籲舉全國之力打造中國版光刻機巨頭艾斯摩爾，以應對美國不斷收緊的科技封鎖，並敦促業界「丟掉幻想，準備鬥爭」。《路透社》指出，該文主張在「十五五」期間透過國家協同開發可實際運作的光刻系統，體現了中國推動高水準科技自立自強的政策方向。
美股雷達
荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML)(ASML-US) 正規劃未來 10 至 15 年的晶片製造技術藍圖，不僅持續深化極紫外光 (EUV) 微影技術優勢，還計畫進軍先進封裝與晶片連接設備領域，以掌握快速成長的人工智慧 (AI) 晶片市場。
歐亞股
《路透社》周一 (23 日) 獨家報導指出，艾司摩爾最新表示，已找到可大幅提升關鍵晶片製造機器光源功率的方法，進而能在 2030 年前將晶片產量提高多達 50%。這家半導體設備製造龍頭的研究人員指出，透過提升功率，可將光刻機極紫外光源的功率提升至 1000 瓦，預計到 2030 年極紫外光 (EUV) 微影設備每小時的晶圓產量可增加 50%。
美股雷達
《日經亞洲》最新發布的半導體設備產業展望報告指出，在人工智慧（AI）晶片產能持續擴張與先進製程資本投入大幅升溫的帶動下，全球前五大半導體設備廠 2026 年營收可望重返雙位數成長，寫下 2022 年以來成長動能最佳表現。報告提到，包括艾司摩爾 (ASML-US) 、應用材料 (AMAT-US) 、科林研發 (LRCX-US) 、東京威力科創與科磊 (KLAC-US) 等龍頭廠商，已同步調高資本支出規劃，顯示對後市需求抱持高度信心。
歐亞股
光刻機巨擘艾司摩爾技術長 Martin van den Brink 在內部評估中嚴厲警告，中國半導體技術突破速度遠超西方預期，五年內恐成艾司摩爾最強競爭對手，因為在美國技術封鎖下，中國正建構自主可控的半導體產業鏈循環。2018 年，某中國企業斥資 1.2 億美元訂購艾司摩爾極紫外光刻機 (EUV)，交貨前夕遭美國施壓攔截，此舉反而激發中國自主創新浪潮。
台股新聞
家登 (3680-TW) 受惠先進製程與先進封裝趨勢延續，董事長邱銘乾對 2026 年營運展望樂觀，預期將增長雙位數，力拚再創新高。此外，為因應客戶海外布局，家登日本久留米廠將在今年底完工，也規劃至美國亞利桑那州自建精密加工廠。邱銘乾補充，家登最終選擇在亞利桑那州自建精密零件加工廠，主要因客戶在美國缺乏相關供應鏈，導致在建廠過程中仍需要將小零件送回台灣加工，因此家登決定先建立小型系統支援客戶。
美股雷達
荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾 (ASML-US) 週三（28 日）公布 2025 年第四季及全年財報，受惠於先進製程與人工智慧（AI）相關需求持續升溫，全年營運表現再創新高。艾司摩爾 2025 全年營收達 327 億歐元，毛利率維持在 52.8%，稅後獲利 96 億歐元。
歐亞股
外媒最新報導指出，南韓三星電子將於今年 3 月在美國泰勒一號工廠啟動 EUV 光刻機測試，隨後逐步導入蝕刻、沉積等設備，計畫下半年正式投產。《韓國經濟新聞 (KED)》周一(19 日) 報導，為加速進度，三星已向德州政府申請工廠臨時使用許可，可在滿足消防與安全條件下在竣工之前先行運作，並派遣大量「王牌級」工程師駐場，以穩定良率。
歐亞股
在台積電 (2330-TW) (TSM-US) \ 宣布調升資本支出以及 AI 市場需求強勁推動下，半導體設備龍頭 ASML 市值正式突破 5000 億美元大關，成為繼少數頂尖龍頭之後，歐洲第三家達成此一重要里程碑的企業。這不僅反映了市場對先進製程設備的極度渴望，也再次印證了 ASML 在微影技術領域無可撼動的壟斷優勢。
歐亞股
大日本印刷株式會社（DNP）宣布，他們已成功開發出一款線寬僅 10 奈米的奈米壓印微影（Nanoimprint Lithography, NIL）模板，並宣稱，此項技術具備支援未來 1.4 奈米製程等級邏輯晶片圖形化的能力，並有望在特定應用領域取代目前由 ASML 獨家壟斷的昂貴 EUV 製程。
國際政經
根據《路透》周三 (17 日) 獨家報導，在深圳一處高度戒備的實驗室內，中國科學家打造出一項華府多年來試圖阻止的技術突破——一台可用於製造最先進半導體晶片的原型設備。這種晶片是人工智慧(AI)、智慧型手機與現代武器系統的核心，對西方軍事與科技優勢至關重要。
美股雷達
在全球 AI 熱潮席捲下，從 ChatGPT 到 Claude，從資料中心到智慧汽車，算力需求呈指數級爆發。支撐這場科技革命的底層硬體，AI 晶片與高性能儲存設備，其製造離不開極紫外光刻機 (EUV），而全球唯一能生產此機器的正是艾司摩爾 (ASML-US) ，這家總部設在荷蘭的公司正憑藉這一壟斷地位，成為 AI 算力產業鏈中最核心的受益者。
台股新聞
騏億鑫 (7848-TW) 今 (10) 日表示，與漢信股份有限公司正式達成策略合作。雙方將針對半導體大廠客戶在美國的擴廠計畫展開緊密結盟，由騏億鑫主導執行荷蘭半導體設備巨頭的 EUV 機台（極紫外光微影系統）設備管路配置工程，並由漢信提供專業技術支援。
歐亞股
根據外媒周三 (3 日) 報導，美國銀行 (BAC-US) 最新報告指出，荷蘭晶片設備大廠艾司摩爾 (ASML-US) 正進入多年的上升周期，受惠於光刻技術使用強度提高、獲利加速成長與自由現金流大幅改善，因此將艾司摩爾納入其「2026 年半導體選股首選」名單，並上調目標價至 1,158 歐元，高於先前的 986 歐元，維持「買進」評等。