EUV
全球晶片設備龍頭、荷蘭艾司摩爾 (ASML-US) 週五（19 日）正面駁斥外電報導，強調公司從未將任何一台極紫外光（EUV）曝光機出貨至中國。此前有報導指出，美國官員擔心該公司最先進的設備之一可能已經流入中國。根據《路透》報導，艾司摩爾透過電子郵件回覆《路透》的聲明中表示：「艾司摩爾從未向中國運送過 EUV 曝光機，也未曾向中國出貨任何專為 EUV 曝光機設計的零件、模組或設備。
國際政經
荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）面臨川普政府上台以來最大的挑戰。在近期一連串的會議中，美國商務部長盧特尼克向 ASML 高層表達關切，指出該公司旗下最頂尖的設備之一可能已流入中國，這違反了由美國主導的出口管制禁令。彭博引述消息人士報導，盧特尼克在會議中向 ASML 高層表示，美方十分關切其極紫外光（EUV）微影設備的流向。
艾司摩爾 (ASML)(ASML-US) 執行長福克 (Christophe Fouquet) 周三 (17 日) 表示，隨著特斯拉執行長馬斯克推動大型晶圓廠計畫 Terafab，艾司摩爾必須確保供應鏈與產能不會成為限制因素，以滿足未來新增需求。
瑞銀 (UBS) 析師 Timothy Arcuri 周二 (9 日) 發布報告指出，隨著美光、三星與 SK 海力士等記憶體大廠啟用新晶圓廠，全球半導體設備市場正邁入「超級周期早期階段」，預估至 2028 年相關營收規模將上看 2500 億美元。
記憶體晶片製造商正擴大生產設施以因應供應吃緊，這對晶片產業的另一個關鍵領域而言是個好兆頭。瑞銀 (UBS) 分析師 Timothy Arcuri 周二 (9 日) 表示，隨著美光科技 (MU-US)、三星電子與 SK 海力士 (SK Hynix) 開始在新的晶圓廠營運，用於製造晶片的無塵室空間限制正在解除。
荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾 (ASML-US) 今年股價雖然大漲 64%、屢創歷史新高，但相對同業的估值溢價已經縮小到逾 10 年來最低水準。市場開始質疑，這家全球唯一極紫外光 (EUV) 微影設備供應商，是否無法充分將人工智慧 (AI) 熱潮轉化為獲利成長。
A股
華為 (Huawei) 近日高調提出「韜定律」(Tau Law)，宣稱可透過先進晶片堆疊技術，開創一條不同於摩爾定律 (Moore's Law) 的新發展路徑。然而，多位半導體分析人士認為，華為最新技術成果雖展現中國工程實力，卻也反映中國在美國出口管制下，短期內仍難突破極紫外光 (EUV) 微影設備限制，與全球領先晶片製造商之間的差距恐將持續存在。
美股雷達
美國新創公司 Substrate 宣稱已突破 X 射線微影技術瓶頸，以五千萬美元工具成本挑戰艾司摩爾 (ASML-US) 五億美元的高數值孔徑 EUV 曝光機，並揚言直接與台積電 (2330-TW) 、三星競爭晶圓代工市場。在半導體製造的數百道工序中，微影技術始終居於核心地位。
作為全球晶片供應鏈的核心，ASML 正成為人工智慧（AI）繁榮的「二階贏家」。高盛分析師團隊在實地調研 ASML 總部，並與執行長 Christophe Fouquet 等高層會談後發布最新研報，整理出五大要點，包括產能擴充、CPU 崛起、儲存訂單、新技術場景和中國需求。
美股雷達
《路透》週四 (28 日) 報導，台積電業務開發資深副總經理張曉強 (Kevin Zhang) 表示，AI 帶來的龐大用電需求，正迫使半導體產業重新思考晶片設計方向，未來影響晶片發展的關鍵限制，已不再只是運算能力，而是「能源效率。」張曉強在阿姆斯特丹一場會議上指出，從智慧手機、物聯網 (IoT) 到 AI 資料中心，客戶現在最重視的已是「在不增加耗電的情況下提升效能」。
美股雷達
全球高端光刻技術競賽持續升溫，荷蘭駐韓大使 Peter van der Vliet 近日受訪時表示，全球多個地區正同步布局下一代光刻技術研發，這是科技產業的常態競爭，並非單獨針對中國。他同時強調，荷蘭與南韓的合作範圍遠超過外界熟知的三星電子、SK 海力士與艾司摩爾 (ASML-US) 間的商業往來，而是涵蓋設備製造、科研機構與人才培育的多層次夥伴關係。
台股新聞
隨著 AI 應用持續爆發，全球半導體產業正迎來設備與材料的超級循環。外資指出，這波成長動能不只來自於傳統的產能擴張，更深層的原因是先進製程與封裝技術的演進。在 AI 晶片需求強勁的帶動下，台積電等晶圓代工廠積極擴充 CoWoS 等先進封裝產能，加上 HBM（高頻寬記憶體）的需求激增，確立了半導體設備與關鍵材料供應商前所未有的長線成長基調。
美股雷達
全球半導體設備龍頭艾司摩爾 (ASML)(ASML-US) 執行長福克 (Christophe Fouquet) 表示，在人工智慧(AI)、衛星與機器人需求快速升溫帶動下，全球晶片市場未來幾年恐持續面臨供應吃緊與產能瓶頸，整體供應鏈將維持「緊張狀態」。
美股雷達
多家外媒報導，艾司摩爾 (ASML-US) 新一代高數值孔徑極紫外光曝光機 (High-NA EUV) 商用進展再傳新消息。ASML 執行長福克 (Christophe Fouquet) 表示，未來幾個月內，市場可望看到首批由新一代 High-NA EUV 製造的晶片產品問世，代表先進製程正式邁向下一階段。
美股雷達
繼記憶體晶片之後，光學科技正成為 2026 年華爾街人工智慧（AI）投資熱潮的下一個焦點。隨著 AI 多頭情緒重返市場，美股第二季掀起一波破紀錄漲勢，而在漲幅居前的個股中，除了記憶體概念股，光通訊股的身影格外搶眼。根據《Business Insider》報導，AI 浪潮初期的算力短缺問題逐漸緩解，市場焦點隨之轉向記憶體與網路傳輸等新興瓶頸。
歐亞股
荷蘭光刻機龍頭 ASML 正處於輝煌與挑戰並存的關鍵轉折點。儘管身為半導體產業鏈中無可取代的「賣鏟人」，憑藉極 EUV 技術壟斷全球市場，但在繁榮的表象下，一系列內部組織動盪、關鍵客戶策略轉向以及日益嚴峻的地緣政治風險，正交織成一場暗潮湧動的生存考驗。
美股雷達
根據摩根士丹利 (下稱大摩) 最新發布的 2026 年科技業展望報告，AI 浪潮遠未熄火，但行情的推進將不再是單邊上漲，而是在上下半場呈現截然不同的節奏。報告指出，今年上半年，市場將延續 2025 年以來的 AI 基礎設施投資熱潮，記憶體價格與大選後大宗商品的上行將構成順風順水，真正的考驗則在下半年，隨著晶圓代工、封測及記憶體成本的全面傳導，終端產品的「價格彈性」將被觸發。
歐亞股
《華爾街日報》(WSJ)周四 (23 日) 報導，荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 股價在歐洲盤中下跌約 3%，市值一度蒸發約 143 億歐元 (約 168 億美元)，主因台積電(2330-TW)(TSM-US) 表態暫無計畫採購其最先進的高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光設備，市場對高階製程設備需求前景出現疑慮。
美股雷達
隨著人工智慧熱潮引發的記憶體晶片長期供不應求，南韓半導體業者為應對需求激增而加大採購力度，促使南韓在第一季躍升為艾司摩爾（ASML）全球最大的市場，台灣位居第二、中國貢獻度則大幅減少。這家荷蘭晶片設備商對南韓的出貨在第一季大幅攀升，占其系統銷售淨額的 45%，高於前一季的 22%；換算為最新一季銷售額達 28.4 億歐元（約 33.4 億美元），顯著高於前一季的 16.7 億歐元。
歐亞股
半導體生產設備巨擘艾司摩爾 (ASML-US) 周三 (15 日) 公布財報，上季營收優於預期，全年營收預測區間獲得上修，顯示在人工智慧 (AI) 熱潮帶動下，對先進晶片設備的需求持續增強，但因為出口管制的不確定性，第 2 季營收預測略遜於分析師所料，也讓亮麗的財報蒙上一層陰影。