荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML-US)周四(21日)表示，第一套高數值孔徑極紫外光(HighNAEUV)微影設備，已交貨給英特爾(INTC-US)。這款最先進EUV曝光機每台價格超過3億美元，將幫助英特爾製造更小、更快的半導體。ASML在社群媒體X平台上張貼的圖片顯示，機器的某一部分裝在一個系上紅色絲帶的保護箱裡，正從荷蘭Veldhoven總部出發。ASML透過聲明說：「我們感到興奮又驕傲，將把第一台HighNVEUV曝光機交付給英特爾。」ASML是微影設備市場霸主，這台最強曝光機組裝後將比卡車還大，必須用13個貨櫃、250個木盒子裝載，預定2026年或2027年應用在商業晶片製程上。英特爾在2022年訂購ASML首台HighNVEUV試用機，而包括台積電(2330-TW)、三星電子、SK海力士和美光(MU-US)，也都陸續訂購這款曝光機。ASML曾在11月30日表示，預定今年年底前交付首批機台。
