荷蘭夏季前頒布半導體設備出口新規定 影響ASML部分DUV設備

荷蘭政府周三 (8 日) 表示，計劃對晶片製造設備出口實施新規定以保障國家安全，將在夏季以前公布內容，這代表荷蘭將加入美國遏制對中科技出口的行列，艾司摩爾 (ASML-US) 至少一部分的深紫外光 (DUV) 曝光微影系統預料受到影響。

荷蘭外國貿易和發展合作部部長 Liesje Schreinemacher，在致國會議員信中概略描述研議中的半導體出口限制，她說：「在科技發展和地緣政治背景下，荷蘭政府認為有必要為了國家和國際安全，把現有的出口管制措施延伸到特定的半導體生產設備上。」

信中透露，將在夏季以前宣布管制措施。Schreinemacher 表示，荷蘭政府將盡可能以謹慎、精準的方式研擬出口管制，避免價值鏈遭遇不必要的破壞。

這封信雖然沒有提及荷蘭的重要貿易夥伴中國，也沒有提到荷蘭的半導體設備大廠 ASML，但兩者都將受到影響。信中特別點名「DUV 設備」會受到影響，正是 ASML 賣給電腦晶片製造商的次先進設備。

荷蘭先前已經禁止極紫外光 (EUV) 曝光微影系統出口中國，相較於 EUV，DUV 雖然應用在較成熟的製程，仍是生產汽車、手機、電腦和機器人晶片最常用的設備。

然而，荷蘭政府在信中留下許多重要問題尚待釐清，例如 ASML 能否繼續服務中國客戶，該公司從 2014 年至今共賣出超過 80 億歐元的 DUV 設備給中國客戶。

ASML 是歐洲市值最高的科技公司，其 DUV 設備在中國主要賣給成熟製程晶片製造商，而其南韓大客戶如三星電子、SK 海力士，在中國都有可觀的產能。

ASML：對今年和長期展望無實質影響

ASML 另在周三發布聲明，表示荷蘭政府的出口規定「不會對公司 2023 年或更長期展望造成實質影響」，但也補充說，未來將需申請出口許可，才能從荷蘭出口 DUV 設備中最先進的產品。

ASML 說，「額外的出口管制並不影響所有浸潤式光刻機，只影響 DUV 設備所謂『最先進』的部分」，而該公司目前還沒有收到政府為「最先進」明確定義提供的指引。

該公司預估今年在中國營收將持平在 22 億歐元，代表相對整體而言表現是停滯的。相較之下，ASML 今年整體營收預估成長 25%，反映主要客戶如台積電、英特爾正在擴充產能。

如果 ASML 的聲明正確，新規定可能達不到美國對本土晶片設備產業相同的管制力道。ASML 的美國競爭對手目前營運受到多重限制，包括可以生產的產品，以及是否可派員工到中國工作。

日本可能本周公布出口新規定

美國去年 10 月宣布擴大出口管制，限制美國半導體生產設備外銷中國，遏制中國發展半導體產業和加強軍備的能力。然而此措施需要其他半導體設備供應大國響應才能發揮效果，因此拜登政府持續敦促荷蘭、日本加入美國的行列。

荷蘭和日本官員 1 月原則上已同意美國的訴求，而日本最快可能在本周公布最新晶片設備的出口管制。

美日荷是全球前三大半導體設備生產國，目前美商應材 (AMAT-US)、科林研發 (LRCX-US) 和科磊 (KLAC-US) 都已經禁止晶片生產設備輸中。