DUV
中國半導體設備研發出現最新突破,中國科學院 (CAS) 近日成功研發突破性的固態深紫外 (DUV) 雷射,光源波長是 193nm,與目前主流的 DUV 曝光波長一致,能將半導體工藝推進至 3 奈米,並跟艾司摩爾(ASML)、佳能、尼康的方式不一樣。
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荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML-US) 周三 (5 日) 公佈以「攜手推進技術向新」為主題的 2024 年度報告,其中介紹近年來出口管制政策造成的影響、對未來市場趨勢展望並透露計劃「升級」位於北京的維修中心。。從營收來源看,艾司摩爾 2024 年來自中國營收為 101.95 億歐元,在總營收當中的佔比約 36.1%,來自南韓營收為 64.09 億歐元,佔比約 22.7%,來自美國的營收為 45.22 億歐元,佔比約 16.0%,來自台灣營收為 43.54 億歐元,佔比約 15.4%,來自歐非中東地區營收為 13 億歐元,佔比約 4.6%,來自日本營收為 11.56 億歐元,佔比約 4.1%。
2025-03-25
2025-03-06