為發展7奈米以下製程 傳中芯國際將就EUV設備與ASML談判

為發展7奈米以下製程 傳中芯國際將就EUV設備與ASML談判 (圖:AFP)
為發展7奈米以下製程 傳中芯國際將就EUV設備與ASML談判 (圖:AFP)

綜合媒體報導,在新任副董事長蔣尚義助力下,中芯國際正尋求與荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 進行談判,盼獲取關鍵的 EUV 光刻機設備,以發展 7 奈米以下工藝技術。

中芯國際週一 (15 日) 召開董事會後,宣布台積電 (2330-TW) 前營運長蔣尚義獲委任副董事長、第二類執行董事及戰略委員會成員,即日起生效。

陸媒《新浪科技》引述產業人士稱,儘管 ASML 在法律上不受美國實體清單等約束條件影響,中芯國際仍難以自該公司取得 EUV 光刻設備,但在蔣尚義幫助下,中芯國際準備尋求與 ASML 談判。

上述報導指出,中芯國際計畫利用 EUV 光刻機生產 7 奈米以下製程的晶片產品。

近期媒體報導稱,中芯國際已自 20 奈米一路攻至 3 奈米工藝製程,唯一缺的就是 EUV 光刻機,只要與 ASML 交易成功,將有助於中芯國際進入 3 奈米晶片量產。

週五 (18 日) 美股早盤,ASML(ASML-US) 股價幾乎不變,僅微跌 0.01% 至 477.27 美元

中芯國際 (00981-HK) 週五港股收盤下跌 5.20%,收報 19.86 港幣。美國商務部稍早宣布將中芯國際在內等多家中企納入實體清單。


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