為發展7奈米以下製程 傳中芯國際將就EUV設備與ASML談判

綜合媒體報導，在新任副董事長蔣尚義助力下，中芯國際正尋求與荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 進行談判，盼獲取關鍵的 EUV 光刻機設備，以發展 7 奈米以下工藝技術。

中芯國際週一 (15 日) 召開董事會後，宣布台積電 (2330-TW) 前營運長蔣尚義獲委任副董事長、第二類執行董事及戰略委員會成員，即日起生效。

陸媒《新浪科技》引述產業人士稱，儘管 ASML 在法律上不受美國實體清單等約束條件影響，中芯國際仍難以自該公司取得 EUV 光刻設備，但在蔣尚義幫助下，中芯國際準備尋求與 ASML 談判。

上述報導指出，中芯國際計畫利用 EUV 光刻機生產 7 奈米以下製程的晶片產品。

近期媒體報導稱，中芯國際已自 20 奈米一路攻至 3 奈米工藝製程，唯一缺的就是 EUV 光刻機，只要與 ASML 交易成功，將有助於中芯國際進入 3 奈米晶片量產。

週五 (18 日) 美股早盤，ASML(ASML-US) 股價幾乎不變，僅微跌 0.01% 至 477.27 美元。

中芯國際 (00981-HK) 週五港股收盤下跌 5.20%，收報 19.86 港幣。美國商務部稍早宣布將中芯國際在內等多家中企納入實體清單。