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美國半導體新創公司 Substrate 28 日宣布,已成功開發出一款新型晶片製造設備,聲稱其技術可媲美甚至挑戰荷蘭巨頭 ASML(ASML-US) 的最先進光刻系統。這項突破性進展若得以實現,將可望重塑全球晶片製造格局,並為美國重奪半導體產業領導權提供關鍵輔助。
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荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾 (ASML) 周三 (15 日) 公布季度財報,單季淨訂單超越市場預期,但公司同時發出預警,預計 2026 年來自中國的銷售額將出現顯著下滑。根據財報數據,ASML 在 2025 年第三季度的淨訂單達到 54 億歐元。
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在美國持續升級的技術制裁下,中國半導體產業的自主化進程傳關鍵突破。據《金融時報》報導,上海新創公司宇量昇已成功研發出一款 28 奈米深紫外光(DUV)曝光機,目前正由中芯國際進行測試。 據報導,該設備在技術上與荷蘭半導體巨頭 ASML 的浸潤式 DUV 光刻機相似,並能利用「多重圖形技術」來生產 7 奈米製程的晶片。
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據《Investing.com》周三 (24 日) 報導,摩根士丹利 (Morgan Stanley) 指出,目前值得買進的最佳人工智慧 (AI) 股票已經不再局限於傳統領先業者,而是進一步擴展至記憶體領域。該投行表示,AI 投資版圖正從硬體逐步轉向應用端,AI 半導體的成長預測顯示,至 2030 年 CAGR(年複合成長率) 將達到 22% 至 55%。
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荷蘭半導體設備製造商 ASML 股價周三 (16 日) 美股盤前下跌,公司先前公布財報時表示,無法保證來年的增長,且美國總統川普的關稅威脅對其前景構成壓力。ASML 歐股盤中下跌約 6.4%,受此影響,包括 Nvidia (NVDA-US)、AMD (AMD-US)、Intel (INTC-US) 和台積電 (TSM-US) 在內的其他晶片股也被拖累,於美股盤前普遍下跌。