美媒：中國正建造EUV原型機 距離真正量產還需至少10年

據美國科技媒體 Tom"s HardWare 報導，中國正在建造 EUV 光刻系統的原型機，預計 2030 左右製造原型晶片。

該設備有前 ASML 員工參與，但目前尚不清楚中國設備的進度細節。ASML 曾在聲明中寫道，有企業想要複製我們的技術是合理的，但想要做到這一點絕非易事。

中國的產業技術正在加速發展，但目前只是進入了原型機的環節，距離中國企業採用國產 EUV 設備量產晶片仍需要至少 10 年時間。

德國蔡司 (Carl Zeiss) 為 ASML 的 EUV 光刻機提供了整套光學成像設備，其中包括了塗覆多層鉬矽堆疊的超精密集光鏡系統、用於均勻化光束的多鏡片照明光學元件、用於實現 4 倍至 8 倍縮小成像且波前誤差低於奈米級的投影光學元件。

ASML 聯合美國西盟公司，解決了光源以及雷射發射器的問題。發射器將極紫外光發射出去，然後極紫外光經過蔡司的一整套成像設備之後，便可以將掩模板上的圖案印刷到晶圓上面。

從設備技術上來說，光源發射器是 EUV 光刻的第一步，只是解決了光源的問題，想要將光源應用到晶片製造，必須要有類似蔡司的這套光學成像設備。如果沒有成像設備，那麼只是掌握了最基礎的光源，無法正常驅動光刻機。

EUV 設備包含了超 10 萬個零件，涵蓋了全球超 5,000 家供應商，並且還需要成百上千的專業工程師對其進行調試維護。光刻機產業代表了整個生態系統，需要全產業鏈的協同發展。

前 ASML 研究部研究員林楠，曾經在 2021 年回到中國加入上海光機所，僅花了 18 個月時間，便申請了 8 項與 EUV 相關的技術專利。2025 年 10 月，林楠離開上海光機所，前往北京航空航太大學擔任積體電路科學與工程學院教授。

國際媒體對此分析，林楠更多的是運用自己的經驗和知識，幫助中國團隊在光刻機領域提昇基礎技術。他並沒有複製自己在 ASML 的技術方法，而是透過經驗幫助中國團隊重新開發技術併申請專利，在自主智慧財產權上面提前進行佈局。