ASML
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近期，AI基礎設施服務商CoreWeave一檔15億美元無擔保債券收益率飆升至15.6%，五年期信用違約交換(CDS)利差突破1194基點，隱含五年累計違約機率超60%，股價單週更重挫逾24%，市場擔憂這是AI資本支出周期即將斷裂的訊號，但巴克莱、高盛、摩根大通在16日至20日期間密集發聲指出，市場選錯了定價對象，也選錯了參照對象。
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中國半導體設備業者朗道燧岩 (Langdao Silex) 在上海第 26 屆中國國際工業博覽會上，首次公開展示極紫外光 (EUV) 光源系統樣機。據現場工作人員介紹，該系統國產化率達 90%，可用於晶片曝光測試，但距離量產仍需 3 至 5 年。
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歐盟傳正與中國協商，擬解除對一家中國企業的貿易限制，換取北京放寬對德國材料商 Sindlhauser Materials 的出口管制。《彭博》近日引述知情人士報導，這家位於艾司摩爾 (ASML-US) 供應鏈中的企業，仰賴中國稀土與其他關鍵礦產，若限制持續，未來幾個月可能面臨停業風險。
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AI晶片需求旺盛，艾司摩爾(ASML-US)卻面臨設備供應追不上客戶擴產的挑戰。執行長福克(Christophe Fouquet)坦言，用於製造先進邏輯與記憶體晶片的微影設備，2027年與2028年的供應都將不足以滿足需求。投資人關注的焦點，也從訂單是否充足，轉向公司能否及時增加產能，把需求轉化為獲利。
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艾司摩爾(ASML)執行長傅恪禮(Christophe Fouquet)日前在第三季法說會上說，高數值孔徑極紫外光刻機(High-NA EUV)正從研發邁向量產，客戶進度提供設備投資下一階段時間表。對此專家表示，ASML下一波成長週期逐漸清晰，關鍵不在短期出機台數，而在英特爾、三星、台積電何時大規模導入High-NA EUV。
歐亞股
荷蘭半導體設備巨擘艾司摩爾(ASML)最新公佈第三季獲利優於預期。執行長Christophe Fouquet表示，受人工智慧投資規模與持續時間驅動，客戶正持續上修中短期設備需求，部分客戶甚至表達希望預訂 2029 年乃至 2030 年的極紫外光(EUV)微影設備訂單。
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全球半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML-US) 指出，部分客戶已開始表達對2029年、甚至2030年下單採購關鍵半導體設備的興趣，顯示人工智慧（AI）投資熱潮帶動的晶片需求，正進一步延伸至未來數年。艾司摩爾第三季獲利優於市場預期，也為關注其長期成長動能的投資人帶來支撐。
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博通(Broadcom)(AVGO-US)執行長陳福陽(Hock Tan)在新加坡一場會議上的發言，成為晶片股周一與周二(13日)下跌的原因之一。《MarketWatch》報導，雖然市場聚焦他將人工智慧(AI)投資人比喻為賭場賭徒的言論，但這番話是否代表他看淡AI前景，也引發不同解讀。
美股雷達
美光科技(MU-US)股價周二(13日)收低3.6%，連續第四個交易日下跌，長鑫存儲(CXMT)傳出在提升單顆晶片記憶體密度的技術上取得進展後，中國記憶體業者加速追趕的可能性，令市場對產業競爭升溫的疑慮加深。美光周二下跌3.6%至每股953.19美元，半導體類股也普遍走弱。
美股雷達
本週國際大事包括美國9月消費者物價指數(CPI)，這是聯準會(Fed)10月底決策會議登場前最後一批重要經濟數據之一。大型銀行將為財報季揭開序幕，台積電和艾司摩爾的營運和財測，將是投資人觀察人工智慧(AI)投資是否繼續推升半導體設備和晶圓代工需求的指標。
國際政經
據韓媒《The Elec》 10日（周六）報導，全球最大半導體設備製造商 ASML決定將供應韓國市場的曝光機替換設備部件價格統一提高10%。此次漲價涉及極紫外曝光機和深紫外曝光機全部備件，從 2027 年 1 月供貨的產品開始執行新價格。業界人士稱，ASML 總部 9 月初就已通過韓國分公司向三星電子和 SK 海力士提出漲價方案，經過與兩家公司採購部門協商，最終敲定漲價事宜。
美股雷達
艾司摩爾(ASML)(ASML-US)與其光學合作夥伴蔡司(Carl Zeiss)的工程師在一篇經過同行評審的論文中表示，ASML現有最先進晶片製造設備的後繼技術，可能在約10年內準備就緒。論文指出，這項名為「Hyper NA」的設備將能製作更微小的電路，同時重複利用兩家公司現有的大部分技術，但仍有一些挑戰需要克服。
美股雷達
艾司摩爾(ASML-US)與光學合作夥伴蔡司(Carl Zeiss)的工程師，在一篇同儕審查論文中指出，接替目前最先進曝光機的「Hyper NA」技術，可能約十年後準備就緒，可印製更微小的晶片電路，並沿用大量既有技術，但仍有挑戰待克服。據《路透》周四(8日)報導，艾司摩爾已開始研發Hyper NA，但尚未承諾投入生產，也未立即回應置評要求。
歐亞股
美銀(BAC-US)警告，艾司摩爾(ASML-US)有意切入混合鍵合市場，可能威脅荷蘭設備商貝思半導體(Besi，全名為BE Semiconductor Industries N.V.)(BESIY-US)的成長前景，相關風險尚未反映在股價中。
國際政經
外媒最新報導指出，中國大陸半導體製造企業在美國與荷蘭出口管制下，仍以個案審批、既有庫存與國產研發「兩條腿走路」推進光刻能力。綜合美國智庫報告、《南華早報》及《日經亞洲》相關報導，外界估算中國目前取得的浸沒式深紫外(DUV)光刻機合計約343台，其中約270台為艾司摩爾(ASML)Twinscan NXT:1980i，這批設備雖非極紫外(EUV)，但配合多重曝光已可支撐7奈米邏輯、先進記憶體與AI加速器量產，並為中國國產整機研發爭取緩衝期。
國際政經
2026灣區半導體產業生態博覽會(灣芯展WESEMiBAY)將於下周三(14日)在深圳舉行，美國、日本、荷蘭、德國、南韓與新加坡等20餘個國家和地區1000餘家半導體企業參展，同期舉辦灣區半導體大會與40餘場先進]論壇，預計吸引7萬名以上專業觀眾，聚焦「設計—製造—封裝—系統—應用」全鏈協同。
國際政經
荷蘭首相羅布·耶滕正在直接向美國總統川普交涉，希望阻止華盛頓進一步收緊對晶片設備造商ASML的出口限制。據《彭博》報導，耶滕24日（周四）表示，他已經多次與川普以及美國國會議員討論《硬體技術管制多邊協調法案》（MATCH），並強調保護半導體產業的重要性。
歐亞股
歐洲市值最高的公司在本土市場交出一張空白的成績單，艾司摩爾(ASML)負責全球公共事務的執行副總裁Frank Heemskerk周一(21日)晚間在阿姆斯特丹一場活動上直言：「我們在歐洲根本沒有銷售業務，這是因為歐洲缺乏投資，也沒有新的晶片工廠在建。
美股雷達
荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾 (ASML-US) 在人工智慧 (AI) 晶片需求推動下，既有極紫外光 (EUV) 微影設備產能已接近售罄至2027年，台積電、三星及SK海力士也陸續確定採用新一代High NA EUV設備，進一步鞏固ASML延續至2030年代的市場主導地位。
台股新聞
比利時微電子研究中心(imec)宣布攜手ASML及材料供應商，在High-NA EUV微影技術再取得進展。將產業沿用多年的化學放大阻劑(CAR)，完成22奈米間距導線的單次圖形化，並驗證多種接近實際晶片設計的複雜結構，顯示成熟CAR光阻技術有望延伸至A14、A10等埃米世代，應用於部分關鍵金屬層與通孔層。