駁AI光刻瓶頸疑慮！蔡司：德國總部新廠擴產2.5萬平方公尺 撐ASML至2040年

德國蔡司集團(Zeiss)半導體製造技術事業部總裁Frank Rohmund近日表示，身為艾司摩爾EUV光學系統唯一供應商，蔡司具備充足且可彈性擴充的產能，足以消化雲端巨頭持續投入AI基建帶動的先進晶片需求，今年半導體事業料將顯著增長。

蔡司上月底宣布，該公司在德國南部奧伯科亨(Oberkochen)總部新增約2.5萬平方公尺生產及配套空間，員工在8月遷入這個歷時四年完成的新空間，餘屋分階段交付。

Rohmund在《彭博資訊》專訪時明確反駁市場對AI晶片供應鏈瓶頸的擔憂，並指蔡司同時在韋茨拉爾等園區新建工廠，預留後續擴產彈性。

Rohmund指出，這些才是「真正攸關產能擴充的長期投資」，蔡司與艾司摩爾共同制定技術藍圖，遠期規劃至約2040年。

奧伯科亨與韋茨拉爾是全球僅能建造ASML光刻機專用光學器件的兩地。蔡司獨供EUV透鏡、反射鏡、照明器與集光器；新一代High-NA EUV光學系統含超過4萬個投影零件、總重約12噸，體積重量約為標準EUV七倍，單面反射鏡以原子級精度打磨、鍍百餘層膜、製程近一年。蔡司零件參與全球約80%晶片生產。

不過，最大風險來自於美中博弈。美國已禁止艾司摩爾向中國出口EUV及先進浸沒式DUV，美國國會議員推動把全部DUV納管，蔡司同為DUV光學供應方，若管制擴大，相關業務將受波及。