光刻機
大陸政經
中國半導體設備研發出現最新突破,中國科學院 (CAS) 近日成功研發突破性的固態深紫外 (DUV) 雷射,光源波長是 193nm,與目前主流的 DUV 曝光波長一致,能將半導體工藝推進至 3 奈米,並跟艾司摩爾(ASML)、佳能、尼康的方式不一樣。
美股
荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML-US) 周三 (5 日) 公佈以「攜手推進技術向新」為主題的 2024 年度報告,其中介紹近年來出口管制政策造成的影響、對未來市場趨勢展望並透露計劃「升級」位於北京的維修中心。。從營收來源看,艾司摩爾 2024 年來自中國營收為 101.95 億歐元,在總營收當中的佔比約 36.1%,來自南韓營收為 64.09 億歐元,佔比約 22.7%,來自美國的營收為 45.22 億歐元,佔比約 16.0%,來自台灣營收為 43.54 億歐元,佔比約 15.4%,來自歐非中東地區營收為 13 億歐元,佔比約 4.6%,來自日本營收為 11.56 億歐元,佔比約 4.1%。
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生產全球最先進半導體製造設備的荷蘭光刻機公司艾司摩爾 (ASML-US) 執行長 Christophe Fouquet 最新預測,美國進一步限制半導體技術銷售至中國的壓力將會增加,並稱這一問題的關鍵是何者對荷蘭跟歐洲有利。此前有報導指出,美國正嘗試施壓荷蘭,俾使荷蘭對中國獲得半導體技術加強限制。
歐亞股
荷蘭政府周五 (6 日) 發布新的出口管制規定,以國家安全風險為由,擴大 ASML 的出口限制。根據將於 9 月 7 日生效的新規定,ASML 現在需要向荷蘭政府而不是美國政府申請出口許可證,才能向中國出口其舊型號的深紫外光微影 (DUV) 系統。
2025-03-25
2025-03-06
2024-10-23
2024-09-06