imec取得High-NA EUV系統 推動業界步入埃米世代

比利時微電子研究中心 (imec) 今 (19) 日宣布，艾司摩爾 (ASML-US) EXE:5200 高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV) 微影系統順利到廠，藉由此次的策略里程碑，imec 進一步確立其在埃米時代扮演產業發展基地的關鍵地位，提供其全球夥伴生態系統提前取得新一代晶片微縮技術的空前機會。

這套 High-NA EUV 系統直接整合量測和圖形化工具及材料的全面套件，將能賦予 imec 及其生態系統夥伴發展量能，以解鎖 2 奈米以下邏輯和高密度記憶體技術所需的性能，這些先進技術將為先進 AI 與高效能運算技術注入快速成長的動能。

imec 執行長 Luc Van den hov 表示，過去兩年已經為高數值孔徑 (0.55NA) EUV 微影技術寫下重要篇章，雙方共同於荷蘭 Eindhoven 建立的 High-NA EUV 實驗室，攜手生態系統來領先研發 High-NA EUV 技術。EXE:5200 High-NA EUV 微影系統安裝在 imec 設於比利時魯汶的 12 吋無塵室，希望藉此推動這些 High-NA EUV 圖形化技術與產業接軌，並開發新一代 High-NA EUV 圖形化技術的應用案例。

Luc Van den hov 指出，這套系統具備最頂尖的解析度、增強型疊對性能、高產量，以及提升製程穩定度和產量的新型晶圓倉儲設備，這些特點將在 imec 合作夥伴加速 2 奈米以下的晶片發展時，提供他們決定性優勢。隨著半導體業邁入埃米世代，High-NA EUV 技術將是基礎戰力，而 imec 透過提供自家合作夥伴最早全面取得這項技術的機會而有幸能率先開發。

這項里程碑是 imec 與 ASML 策略夥伴關係的關鍵部分，該協議為期五年，並獲得歐盟 (晶片聯合承諾與歐洲共同利益重要項目)、法蘭德斯政府與荷蘭政府的支持。

Luc Van den hov 說明，作為歐盟資助的奈米晶片試驗製程的組成部分，這套工具預計將鞏固歐洲在未來數十年先進半導體研發的領導地位。

在 imec 的無塵室配備 ASML EXE:5200 High-NA EUV 微影系統，穩固 imec 在先進圖形化技術領域作為最完整開發環境的地位。imec 與各大晶片製造商、設備、材料與阻劑供應商、光罩企業及量測專家建立深度生態系統合作，這將能讓我們加速學習循環並提升製程穩定度，為新一代邏輯和記憶體元件技術，開發與展示尖端圖形化技術，驅動將能塑造未來先進運算與 AI 發展的技術創新。

ASML 執行長 Christophe Fouquet 表示，imec 成功安裝 EXE:5200 曝光機是邁向埃米世代的重要一步。透過合作，公司正在加速 High-NA EUV 為新世代先進記憶體與運算技術拓展應用的能力。

imec 預期 EXE:5200 High-NA EUV 微影系統將在 2026 年第四季完成所有檢驗。同時，ASML 與 imec 於荷蘭 Eindhoven 共同建立的 High-NA EUV 微影實驗室也將維持運作，為 imec 及其生態系統夥伴確保 High-NA EUV 研發工作持續進行。