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    2026-03-19
  • 美股雷達

    比利時微電子研究中心 (imec) 今 (19) 日宣布,艾司摩爾 (ASML-US) EXE:5200 高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV) 微影系統順利到廠,藉由此次的策略里程碑,imec 進一步確立其在埃米時代扮演產業發展基地的關鍵地位,提供其全球夥伴生態系統提前取得新一代晶片微縮技術的空前機會。






  • 歐亞股

    比利時半導體研究機構 imec 周三 (18 日) 表示,已取得一台由荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML-US) 製造的 High NA 極紫外光 (EUV) 微影設備,價值約 4 億美元。這款設備全球僅有不到十台,被視為下一代晶片製造的重要關鍵設備,將協助產業推進更先進製程技術的研發與測試。






  • 2025-12-08
  • 台股新聞

    半導體廠聯電 (2303-TW) 今 (8) 日宣布,與全球領先的先進半導體技術創新研發中心 imec 簽署技術授權協議,取得 imec iSiPP300 矽光子製程,該製程具備共封裝光學 (Co-Packaged Optics, CPO) 相容性,將加速聯電矽光子技術發展藍圖。






  • 2025-07-24
  • 台股新聞

    量測設備業者 Infinitesima 今 (24) 日宣布,啟動為期三年的開發專案,將持續與 imec 合作,並與包括 ASML 在內的多家夥伴攜手,將自家 Metron3D 300 毫米線上晶圓量測系統,針對新技術進行優化,包括混合接合 (Hybrid Bonding)、高數值孔徑極紫外光微影 (High-NA EUV Lithography),以及互補場效電晶體 (CFETs) 等 3D 邏輯裝置結構。