IC Insights：台積電、三星領軍 半導體業資本支出創史上新高

晶片製造商看到了產業復甦的曙光，但為此他們必須付出代價，據 IC Insights 最新報告，台積電 (2330-TW) 及三星 (005930-KR) 今年第 4 季的資本支出，都預計創下史上新高。

IC Insights 指出，今年市占前五大的半導體公司 (即三星、英特爾、台積電、SK 海力士和美光)，在半導體行業資本支出的占比將來到 68% 的歷史新高，相較於 1994 年，前五大公司的支出占比僅為總行業的 25%，說明這一產業大公司狂增支出的趨勢一直並未減弱。

比較台積電及三星的季度支出趨勢，今年兩家公司在年初的支出都相對較低，然後在第 2 季增至適度水準，然後在第 3 季的財報會議上，雙方都計畫將第 4 季的支出升至創紀錄的水準。

台積電計畫將第 4 季的資本支出較前一季增加 64%，至 51.47 億美元，將是這家公司單季支出的歷史新高，比 2014 年第 1 季 37.99 億美元的前歷史記錄高出 36%。

台積電目前 7 奈米的需求非常強勁，預計將占第 4 季銷售的 33%，大部分的投資將用於 5 奈米及 7 奈米的生產，預計全年資本支出將達到 140 億美元至 150 億美元，比最初設定的目標高出近 40%。

三星同樣宣布了新的單季支出紀錄，將較第 3 季增加 81%，至 79 億美元，比 2017 年第 4 季的前歷史新高 68.77 億美元高出 15%，今年全年資本支出將來到約 200 億美元。

英特爾 (INTC-US) 也略微提高原定的資本支出約 3%，今年 160 億美元資本支出目標將創下公司的紀錄，比兩年前的支出高出 36%。

間接受惠設備生產商

包括台積電、英特爾和三星在內的公司都在競相生產更小、更快的處理器。但是，為達此目的，他們必須買進更昂貴的生產設備、進行研發，這些設備包括使用極紫外線 (EUV) 的技術。

大型製造商調高資本支出，自然也使得半導體設備生產商受惠。今年迄今，ASML(ASML-US) 和 KLA-Tencor(KLAC-US) 股價已經分別增長了 76% 和 94%。隨著明年 EUV 需求有望進一步升級，設備製造商前景可能更加光明。