日企DNP與佳能合作推動1.4奈米晶片製造 製造成本與能耗大降九成

日本大日本印刷 (DNP) 周二 (9 日) 宣布，成功開發出具備 10 奈米線寬的奈米壓印微影 (NIL) 模板，適用於製造相當於 1.4 奈米世代的尖端邏輯半導體。DNP 計畫在 2027 年開始批量生產此模板，專門配合日本佳能公司推出的 NIL 製造設備一同使用。

據日媒報導稱，佳能公司擁有奈米壓印晶片製造設備，透過將電路圖案壓印到晶圓上來生產電路。此技術組合可望將先進半導體的製造成本和能耗降低約九成，功耗可降至現有曝光製程的約十分之一。

這為晶片製造商提供了一個低成本、低能耗的極紫外光 (EUV) 製程替代方案。佳能的 NIL 設備單價也遠低於高昂的 EUV 光刻設備。

據報導，此項突破性技術可用於製造相當於 1.4 奈米世代的邏輯半導體，滿足智慧型手機、資料中心及 NAND 快閃記憶體等裝置對尖端晶片微型化的需求。NIL 是一種微細加工技術，透過將模具模板壓印到基板上，可靠且低成本地轉移電路圖案。

DNP 的 10 奈米 NIL 模板是透過結合長年累積的高精度圖案化技術、光罩製造技術以及晶圓製程技術所開發而成。此外，DNP 也利用自對準雙重圖案化 (SADP) 來加倍圖案密度，進一步實現 NIL 模板的微型化。

相較於需要龐大資本投資、高能耗和高營運成本的極紫外光 (EUV) 微影，採用 NIL 技術的超微細半導體節能加工技術，可將曝光過程中的功耗降至目前氬氟 (ArF) 浸沒式及 EUV 製程的約十分之一。這對於降低製造業成本和減輕環境負擔至關重要。此模板旨在取代部分 EUV 微影製程，為客戶提供更多半導體製造工藝的選擇。

下一代 1.4 奈米晶片預計將應用於人工智慧 (AI) 資料中心和自動駕駛系統。DNP 的目標是在 2030 財年，將 NIL 相關銷售額提高至 40 億日元。