壓印微影

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日企DNP與佳能合作推動1.4奈米晶片製造 製造成本與能耗大降九成

日本大日本印刷 (DNP) 周二 (9 日) 宣布，成功開發出具備 10 奈米線寬的奈米壓印微影 (NIL) 模板，適用於製造相當於 1.4 奈米世代的尖端邏輯半導體。DNP 計畫在 2027 年開始批量生產此模板，專門配合日本佳能公司推出的 NIL 製造設備一同使用。