ASML推5nm工藝「eScan1000」預估助產能大增600%

ASML推5nm工藝「eScan1000」預估助產能大增600%  (圖片:AFP)
ASML推5nm工藝「eScan1000」預估助產能大增600% (圖片:AFP)

荷蘭半導體設備製造商 ASML 宣布推出了第一代 HMI 多光束檢測機 HMI eScan1000,適用於 5 奈米及以上的工藝進程,產能將能提高多達 600%。

新的 MBI 系統包括一個電子光學系統,該系統能夠創建和控制多個一次電子小束,然後收集和處理所產生的二次電子束,將電子束與電子束的串擾限制在 2% 以下,並提供一致的成像質量。

ASML 所推出的第一代 HMI 多光束檢測機 HMI eScan1000 的優勢在於,有別於一般的電子束,多電子束檢測能大幅提升速度,也使得產能能提升 600%。

ASML HMI 產品營銷副總裁 Gary Zhang 表示:「隨著每項新技術的關鍵晶片尺寸持續縮小,缺陷也更加微小,以至於無法通過一般的光學檢測來發現缺陷。我們的新型多光束檢測系統能夠檢測到這些較小的缺陷,同時解決了以前的電子束吞吐量的光學檢測極限,更適合於量產環境。」

儘管晶片內的缺陷微小,但任何一個微小的缺陷,都將可能影響晶片的良率及性能,因此需要藉由半導體檢測設備來偵測其中的缺陷。目前的半導體領域中,偵測缺陷的方式主要依靠光學系統以及電子束檢查。光學系統偵測速度快,解析度卻受到限制,而電子束的速度較慢,解析度更好。

第一代 HMI 多光束檢測機 HMI eScan1000 已於本週交付給客戶進行評鑑。ASML 也計劃在後幾代系統中增加光束數量和光束的解析度,以符合晶片製造商的產品計畫路線持續上升的要求。


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