euv

09-26A股港股

中國產DUV傳獲突破 但面臨十年產業低效期

在美國持續升級的技術制裁下，中國半導體產業的自主化進程傳關鍵突破。據《金融時報》報導，上海新創公司宇量昇已成功研發出一款 28 奈米深紫外光（DUV）曝光機，目前正由中芯國際進行測試。 據報導，該設備在技術上與荷蘭半導體巨頭 ASML 的浸潤式 DUV 光刻機相似，並能利用「多重圖形技術」來生產 7 奈米製程的晶片。

03-27A股港股

中國新凱來傳聞將在本周展示DUV 5奈米突破性技術

據《TrendForce》報導指出，隨著中國尋求減少對西方極紫外光 (EUV) 微影系統等晶片製造機器的依賴，該國正積極將現有的深紫外光 (DUV) 技術推向極限。據媒體早前報導，與華為相關的新凱來 (SiCarrier) 可能透過其自對準四重圖案化 (SAQP) 技術，實現中國國內的 5 奈米晶片生產。

10-18歐亞股

報導：三星德州廠還找不到客戶 因此推遲接收ASML設備

據《路透》引述知情人士透露，三星電子已推遲爲其即將在德州開設的工廠接收 ASML(ASML-US)(艾司摩爾) 晶片製造設備，因為三星這一計畫尚未贏得任何主要客戶。知情人士表示，三星還推遲向一些其他供應商下達訂單，用於其在泰勒市價值 170 億美元的工廠，這促使這些供應商尋找其他客戶，並將部署在現場的員工送回國內。