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荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾 (ASML) 周三 (15 日) 公布季度財報,單季淨訂單超越市場預期,但公司同時發出預警,預計 2026 年來自中國的銷售額將出現顯著下滑。根據財報數據,ASML 在 2025 年第三季度的淨訂單達到 54 億歐元。
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在美國持續升級的技術制裁下,中國半導體產業的自主化進程傳關鍵突破。據《金融時報》報導,上海新創公司宇量昇已成功研發出一款 28 奈米深紫外光(DUV)曝光機,目前正由中芯國際進行測試。 據報導,該設備在技術上與荷蘭半導體巨頭 ASML 的浸潤式 DUV 光刻機相似,並能利用「多重圖形技術」來生產 7 奈米製程的晶片。
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據《TrendForce》報導指出,隨著中國尋求減少對西方極紫外光 (EUV) 微影系統等晶片製造機器的依賴,該國正積極將現有的深紫外光 (DUV) 技術推向極限。據媒體早前報導,與華為相關的新凱來 (SiCarrier) 可能透過其自對準四重圖案化 (SAQP) 技術,實現中國國內的 5 奈米晶片生產。
2025-10-15
2025-09-26
2025-03-27