曝光機
國際政經
荷蘭擴大ASML曝光機出口管制 北京怒：堅決反對
荷蘭政府上周五（6 日） 以國安風險為由，公布新的出口管制規定，擴大半導體設備大廠 ASML 的出口限制，中國商務部對此在周日發表聲明，表示堅決反對。根據荷蘭政府於上周六生效的新規定，ASML 現在需要向政府申請出口許可，才能向中國提供 2 款深紫外線曝光機（DUV）。
韓媒：ASML最先進EUV設備 今年產能全由英特爾買下
據韓媒《TheElec》報導，ASML 截至明年上半年絕大部分高數值孔徑 EUV 設備的訂單，已經由英特爾 (INTC-US) 買下，包括今年計畫生產的五套設備，將全部運給這家美國晶片製造商。消息人士表示，由於 ASML 高數值孔徑 EUV 設備的產能約為每年 5 至 6 台，這意味著英特爾將獲得所有初始庫存。
歐亞股
ASML第一季新訂單未達預期 全年銷售指引不變
受到晶片製造業對其最先進機器的需求下滑影響，半導體設備製造龍頭艾司摩爾 (ASML) 公布的新訂單成績，未能達到分析師預期。ASML (ASML-US) 周三 (17 日) 公布第一季財報，財報顯示，ASML 第一季淨銷售額年減 21.6% 至 52.9 億歐元，低於預期的 54.7 億歐元，淨利潤年減 37.4% 至 12.2 億歐元，超出預期的 10.7 億歐元，新訂單為 36.1 億歐元，不及預期的 46.3 億歐元。
大陸政經
中國商務部長會荷蘭外貿大臣 促曝光機貿易正常進行
在美國政府要求盟友停止向中國晶片製造商提共設備之際，中國商務部長王文濤周三（27 日）在北京會見荷蘭外貿大臣范呂文，雙方重點就曝光機輸華、加強半導體產業合作等議題深入交換意見。據《財聯社》周四報導，王文濤表示，今年是中荷建立開放務實的全面合作夥伴關係十周年。
歐亞股
ASML明年推出2奈米晶片製造曝光機 要價3億歐元
據南韓科技媒體 SamMobile 報導，半導體製造設備大廠 ASML 將在未來幾個月內推出生產 2 奈米晶片的設備，且數值孔徑（NA）光學性能從 0.33 提高到 0.55。據《芯榜 +》報導，相較於 DUV 浸入式曝光系統（193nm），EUV 曝光系統使用的極紫外光波長（13.5nm）顯著降低，多圖案 DUV 步驟可以用單次曝光 EUV 步驟代替，有助於晶片製造商繼續向 7 奈米及以下更先進製程工藝推進，進一步提升效率，降低曝光成本。
台股新聞
佳能想用NIL技術挑戰EUV ，台積電、聯電 、光罩將有機會受惠
〈奈米壓印微影技術與三大曝光機廠〉日本半導體設備大廠佳能 (Canon) 在 10 月 13 日宣布開賣採用奈米壓印 (Nano-imprint Lithography，NIL) 技術的微影設備 FPA-1200NZ2C，Canon 表示奈米壓印微影設備可用來生產現行最先進的 5 奈米記憶體晶片，期望改良後可進一步用來生產 2 奈米產品，試圖挑戰半導體設備龍頭廠艾司摩爾 (ASML-US) 的地位。