荷蘭曝光機巨頭ASML擴產 佔地35公頃
鉅亨網編譯鍾詠翔 綜合外電
面對人工智慧(AI)熱潮帶來的強勁需求,荷蘭曝光機製造商ASML 8日(周二)宣布,將在荷蘭動工興建一座新的大型生產園區,以擴大產量。

ASML表示,新設施BIC North位於埃因霍溫機場附近,佔地35公頃,距離阿斯麥費爾德霍芬總部和主要生產基地約7公里。
整個項目將分階段建設,最終可創造約2萬個就業機會。預定2029年完工的一期工程,至少容納3,000名員工,涵蓋生產、物流以及配套辦公設施,包括用於專業設備製造的無塵室。
ASML還將在新園區引入新製造模式「流動工廠」(Flow Factory),用於其旗艦曝光平台Twinscan。新製造模式通過借鑑汽車、航空航天等產業的成熟生產方式,重新設計物料和生產流程,以提高曝光設備模組生產和裝配效率。
ASML是全球唯一一家EUV(極紫外)曝光機供應商,而EUV曝光機是生產尖端晶片必不可少的製造設備。
ASML已成為歐洲最具價值的公司,市值達到6,600億美元,今年以來股價飆漲62%。
台積電(2330-TW) (TSM-US) 、三星、SK海力士、美光(MU-US) 、英特爾(INTC-US) 等晶片廠商均是ASML客戶。隨著輝達(NVDA-US) 、OpenAI、Google、亞馬遜(AMZN-US) 、Anthropic等科技企業持續加碼AI算力基礎設施,上游晶片廠商也在擴大先進製程和記憶體晶片產能,進而拉動對ASML高階曝光設備的需求。
ASML 7月表示,EUV曝光設備的產能在2027年底前,幾乎全部被預訂。
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