彭博：ASML在中國銷量飆升 美、荷秘密協議未見效

彭博周四 (25 日) 報導，美國和荷蘭去年達成的一項秘密協議限制艾司摩爾 (ASML)(ASML-US) 向中國出貨，但這並未阻止其敏感晶片製造設備的銷售激增。這項協議此前從未被報導過。

報導指出，由於艾司摩爾轉向北京彌補其他地區需求的疲軟，該協議陷入僵局。荷蘭政府批准更多的出口，讓中國得以在美國斡旋的新出口限制於本月生效之前囤設備。

知情人士透露，該協議最初是作為這些限制生效前的權宜之計，旨在優先向中國以外的市場出口該公司的深紫外光曝光機 (Deep Ultraviolet lithography, DUV)。

知情人士表示，全球經濟低迷促使艾司摩爾成功遊說荷蘭海牙 (The Hague)，獲得向中國出口關鍵半導體製造設備許可，打破美國官員有關該交易將限制交貨的預期。中國去年成為艾司摩爾最大的市場，因為中國企業在即將實施的出口禁令之前爭相購買設備。

艾司摩爾是製造最複雜半導體所需設備的唯一生產商，其設備生產的晶片具有軍事用途。美國為削弱中國半導體雄心的努力，漸漸把這家荷蘭公司列為目標，引起了該公司即將離任的執行長韋尼克 (Peter Wennink) 和一些當地議員的憤怒。

上述知情人士說，儘管外界對艾司摩爾的看法不佳，但該公司並未違反協議。半導體產業的長期低迷限制了其他地區對艾司摩爾設備的需求。

截稿前，美國國家安全會議 (National Security Council) 和荷蘭對外貿易部 (Dutch Foreign Trade Ministry) 的發言人拒絕置評。

ASML 向中國出口 DUV 美方出手為時已晚

去年 12 月，從荷蘭進口的光刻設備比去年同期成長近 1,000%，達到 11 億美元，因為多家公司趕在本月荷蘭的限制措施開始之前搶購。

艾司摩爾表示，運往中國的大多數設備都不是最先進的。韋尼克昨日受訪時說：「我們在中國 90% 的業務都與成熟的技術有關。」

不過，艾司摩爾生產的第二先進的機器——深紫外光曝光機——幫助推動中國晶片製造的突破。與規格較高的型號不同，這種機器直到今年才受到出口禁令的限制。根據彭博去年 10 月報導，中國中芯國際 (0981-HK) 使用該公司的設備替華為的智慧型手機生產 7 奈米晶片。

這款晶片顯示的製造能力遠遠超出美國試圖阻止的水準，並引發華府方面的擔憂，即現在阻止中國半導體的進步為時已晚。

在秘密協議未能遏制艾司摩爾的交付後，美國採取了進一步措施來限制這種貿易。去年 10 月，美國官員對外國公司出口 DUV 機器單方面推出了新的限制。彭博本月報導指出，去年年底，美國官員要求艾司摩爾立即停止向中國客戶運送部分設備。

美、日半導體設備製造商去年對中國營收驟降

另一方面，隨著艾司摩爾在中國的銷量增加，一些競爭對手的中國銷量占比下降。

美國最大的晶片設備製造商應材 (AMAT-US) 對中國的銷售額連續第二年下降，2023 會計年度對中國的營收縮減至 27%；另外去年科林研發 (LRCX-US) 僅剩約四分之一的收入來自中國，低於先前超過 35% 的高峰。

日企東京威力科創公司 (Tokyo Electron Ltd.) 去年來自中國的營收占比也下滑。與荷蘭一樣，日本也受到華府的壓力，對中國半導體企業設置下障礙。

本篇文章不提供合作夥伴轉載