彭博:美國遊說荷蘭 禁止向中國賣出舊款EUV、DUV設備

彭博:美國遊說荷蘭 禁止向中國賣出舊款EUV、DUV設備 (圖片:AFP)
彭博:美國遊說荷蘭 禁止向中國賣出舊款EUV、DUV設備 (圖片:AFP)

《彭博》週二 (5 日) 引述消息人士報導,美國官員正在遊說 ASML 禁止向中國出售一些較舊的極紫外光 (EUV) 曝光機或深紫外光 (DUV) 系統,受此消息拖累,ASML ADR (ASML-US) 週二大跌 4.55% 至每股 409.00 美元。

受到美中科技戰影響之下,荷蘭半導體微影設備廠 ASML 用於先進製程的 EUV 曝光機無法獲得荷蘭政府許可出口中國,而且禁售範圍可能進一步擴大。

消息人士透露,美國官員正在遊說 ASML 禁止向中國出售一些較舊的極紫外光 (EUV) 曝光機或深紫外光 (DUV) 系統,儘管這些不是用來製造先進製程晶片,但是仍是製造汽車、電話、電腦甚至機器人晶片所需的設備。

消息人士稱,禁售討論是在美國商務部副部長 Don Graves 於 5 月下旬和 6 月初訪問荷蘭和比利時討論供應鏈問題時傳出。Graves 當時造訪 ASML 位於荷蘭 Veldhoven 的總部,會見執行長 Peter Wennink。

不過,荷蘭政府尚未同意對 ASML 向中國晶片製造商出口的任何額外限制,這可能會損害荷蘭與中國間的貿易關係。

ASML 回應:「這些消息不是新聞了,公司尚未作出任何決定,不希望對傳言進行猜測或發表評論。」

另一位消息人士指出,美國還試圖向日本施加壓力,要求日本 Nikon 停止向中國晶片製造商提供相同的技術。

市場解讀,基於國家安全考慮,諸如應用材料 (AMAT-US) 和科林研發 (LRCX-US) 等主要晶片設備製造商已禁止向中國中芯國際銷售某些先進產品,潛在的 DUV 禁令可能會進一步打擊中芯國際等中國半導體公司。

台灣經濟研究所分析師 Johnson Wang 表示,曝光機是中國在半導體生產方面最難更換的設備,如果沒有國外提供 DUV 設備,中國半導體產業發展可能會停滯不前。

(本文不開放合作夥伴轉載)


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