〈台積電法說〉資本支出衝新高 台設備廠搭順風車

〈台積電法說〉資本支出衝300億元創新高 台設備廠搭順風車。(圖:AFP)
〈台積電法說〉資本支出衝300億元創新高 台設備廠搭順風車。(圖:AFP)

晶圓代工龍頭台積電 (2330-TW) 今 (15) 日宣布,再度上調資本支出至 300 億元,較去年大增 74%,台灣的後段設備、廠務工程、晶圓製造、自動化、封裝設備等業者,均可望搭上台積電列車,推升營運進入高速成長期。

台積電本月初宣布,由於公司正進入成長幅度更高的週期,為因應成長需求,未來三年將投入 1000 億美元增加產能,等同於每年支出 333 億美元,相較當時預估的資本支出 250-280 億美元大幅增加,當時市場便預期,台積電將再度上調今年資本支出。

觀察台積電資本支出細節,仍預計將高達 80% 的預算投入 3 奈米、5 奈米及 7 奈米等先進製程,而先進製程設備多掌握在國際大廠手中,包括應材 (AMAT-US)、艾司摩爾 (ASML-US)、科磊 (KLAC-US)、科林 (LRCX-US) 等。

台廠主要扮演關鍵零組件角色,其中,應材供應鏈代表包括京鼎 (3413-TW)、瑞耘 (6532-TW),艾司摩爾供應鏈如帆宣 (6196-TW)、公準 (3178-TW)、家登 (3680-TW)、意德士 (7556-TW) 等。

尤其隨著先進製程持續推進,EUV 技術應用顯得越趨重要,台廠家登、意德士均透過與台積電直接合作,分別量身打造 ASML 設備的 EUV 光罩盒、真空吸盤曝光載台,成為取代 ASML 原廠零組件的供應商,也是台廠提供的零組件中,少數與晶圓直接接觸的供應商。

另外,京鼎為應材供應鏈指標廠,主要替應材代工設備模組,涵蓋 CVD(化學氣相沉積)、Etch(蝕刻)、ALD(原子層沉積) 與 PVD(物理氣相沉積) 等設備,也同樣承接設備零組件的維修備品,如 CMP 化學機械研磨頭等,預期今年營收就可突破百億元大關。

至於基礎建設如廠務與機電工程,向來由漢唐 (2404-TW)、帆宣 (6196-TW)、亞翔 (6139-TW) 等承接,此次台積電前往美國設廠,工程也將由漢唐美國子公司施作,可望挹注漢唐後續營運。

業界人士看好,隨著台積電持續建廠,擴大投資後段設備,維持技術領先,加上台積電積極落實零組件在地化,相關供應鏈均可雨露均霑,推升營運持續創高。


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