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趕上美光、SK海力士 鎧俠推170層NAND快閃記憶體

鉅亨網編輯江泰傑

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  • 日經亞洲評論報導稱,全球第二大 NAND 快閃記憶體製造商鎧俠 (KIOXIA) 已成功開發出 170 層的 NAND 快閃記憶體,其讀寫速度是目前鎧俠最高階產品 (112 層) 的兩倍以上。

日經亞洲評論報導稱,全球第二大 NAND 快閃記憶體製造商鎧俠 (KIOXIA) 已成功開發出 170 層的 NAND 快閃記憶體,其讀寫速度是目前鎧俠最高階產品 (112 層) 的兩倍以上。

該技術是鎧俠與美國合作夥伴威騰電子(Western Digital)聯合開發,在成功達到這個新里程碑後,鎧俠已與美光和 SK 海力士並列,均擁有這項尖端技術的實力。

在全球 NAND 市佔中,雖然美光排在第七名,但是在堆疊能力方面,美光毫不遜色,美光是全球第一家推出 176 層 3D NAND 快閃記憶體的廠商。


根據了解,鎧俠計畫在正舉行的國際固態電路大會 (SSCS) 上推出其新款 NAND,並預計最早在明年開始量產。

鎧俠希望能夠借助新的高階產品,滿足數據中心和智慧手機相關的需求,因為 5G 技術興起帶動更大,更快的數據傳輸。但是該領域的競爭不斷加深,美光和 SK 海力士在之前已率先宣布 176 層 NAND。

另外,鎧俠還成功地在新型 NAND 每層上安裝了更多的儲存單元,這意味著與相同容量的記憶體相比,它可以使晶片縮小 30% 以上。更小的晶片將使智慧手機、伺服器等其他電子產品內部空間具有更大的靈活性。


為了提高快閃記憶體的產量,鎧俠和威騰電子計畫今年春季在日本四日市建設一個約 94.5 億美元的工廠,他們的目標是在 2022 年第一批生產線能順利量產。此外,鎧俠在日本 Kitakami 工廠周邊也買下幾家工廠,以便未來能夠根據需求擴大產能。


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