台積電首創乾式EUV光罩潔淨技術 改善效益達20億元

台積電選用無保護膜的EUV光罩以提高透光性,減少EUV微影製程曝光光能損耗。(圖:取材自台積電官網)
台積電選用無保護膜的EUV光罩以提高透光性,減少EUV微影製程曝光光能損耗。(圖:取材自台積電官網)

晶圓代工龍頭台積電 (2330-TW) 領先全球導入極紫外光 (EUV) 微影製程技術,並首創環境友善的「乾式 EUV 光罩潔淨技術」,取代傳統沖洗流程,今年落塵率已削減達 99%,除使光罩使用率躍升超過 8 成,也延長先進製程 EUV 光罩壽命,累計創造改善效益達新台幣 20 億元。

台積電為達優質的 EUV 微影良率,並實踐綠色製造使命,首創乾式 EUV 光罩潔淨技術,透過分析落塵、排除汙染源方式,使機台內每一萬片晶圓曝片的落塵數,從數百顆減少到個位顆數,落塵率削減 99%;導入試產迄今累計節水量約 735 公噸,降低化學品使用量約 36 公噸。

依製程需求,EUV 微影製程光罩分為有 / 無保護膜二種。台積電選用無保護膜的 EUV 光罩,以提高透光性,減少 EUV 微影製程曝光光能損耗;為進一步解決無保護膜 EUV 光罩的落塵問題,台積電品質暨可靠性組織攜手技術發展、營運組織,從 2018 年起,共同開發落塵分析技術。

台積電研發的「乾式 EUV 光罩潔淨技術」,透過乾式技術快速去除落塵,取代需要使用純水與化學品的濕式清潔手法;同時,以次奈米級分析技術精準定位落塵來源,從根本排除汙染源,經不斷測試與優化,今年成功使落塵削減率超過 99%。

藉由乾式 EUV 光罩潔淨技術創新,台積電除達成利用 EUV 微影製程技術領先量產目標,資源使用效率也進一步提升,自 2018 年導入試產至今,有效減省水、化學品等能資源使用量,且據生產週期控管系統顯示,乾式潔淨技術導入後,大幅縮短光罩保修頻率與時間,光罩使用率躍升超過 80%,也延長先進製程 EUV 光罩壽命。

台積電去年進一步發展乾式 EUV 光罩潔淨技術自動化,已於今年 1 月全面導入 12 吋晶圓廠區量產;目前台積電品質暨可靠性組織,持續開發更微小的落塵分析及清潔技術,為未來更精密的先進製程打下穩健品質管理基礎,實踐科技與生態並存的綠色製造承諾。


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