曝光機
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多家外媒報導，艾司摩爾 (ASML-US) 新一代高數值孔徑極紫外光曝光機 (High-NA EUV) 商用進展再傳新消息。ASML 執行長福克 (Christophe Fouquet) 表示，未來幾個月內，市場可望看到首批由新一代 High-NA EUV 製造的晶片產品問世，代表先進製程正式邁向下一階段。
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《路透》週三 (22 日) 報導，台積電展示新一代晶片製程技術，強調在不依賴 ASML 最新一代曝光機設備的情況下，仍可推進晶片微縮並提升運算效能。根據供應鏈數據，台積電作為 ASML 最大客戶，目前沒有計劃在 2029 年前導入 ASML 最新的 High-NA EUV 微影設備用於晶片生產。
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根據美銀證券（BofA Securities）的說法，美國擬議中的《MATCH 法案》，全名「硬體技術管制多邊接軌法」（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware），旨在加強並協調對關鍵半導體製造設備的出口管制，特別是針對先進晶片生產中所使用的關鍵「瓶頸」技術。
國際政經
一群跨黨派的美國政治人物提出一項法案，計畫對出口至中國的電腦晶片製造設備施加更嚴格的限制，影響包括艾司摩爾 (ASML-US) 及中國主要晶片製造商在內的企業。根據《路透》報導，週四（2 日）晚間公布的《MATCH 法案》草案旨在保護美國在人工智慧（AI）領域的領先地位，透過阻止中國企業獲得其自身無法製造的晶片製造設備，並確保位於美國盟國的企業在出口限制上與美國公司面臨相同規範。
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荷蘭曝光機大廠艾司摩爾 (ASML-US) 的股價近期自高點回落，為投資人提供了相對便宜的買入機會。根據 TD Cowen 分析師的研究報告，艾司摩爾目前股價已呈現吸引力。根據《巴隆周刊》報導，截至上週四（19 日）收盤，艾司摩爾在美國上市的股票過去一個月下跌了約 7%。
A股港股
儘管美國與荷蘭政府持續加強對先進半導體設備的出口管制，2025 年最新的財報數據卻呈現出令市場意外的結果—中國依然是 ASML 全球最大的買家。在極紫外光 (EUV) 與先進浸潤式深紫外光 (DUV) 曝光機 (光刻機) 遭到禁售的情況下，中國企業透過對成熟製程設備的「買買買」，支撐了 ASML 近三分之一的銷售額。
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美國的技術封鎖與制裁，正意外成為中國推動半導體獨立的催化劑。儘管美國政府多年來對中國半導體產業實施多項制裁，但中國企業卻在壓力之下成功發展出完整的晶片自主供應鏈，逐步建立起「中國製造、服務中國市場」的產業模式，推動技術突破與國產化升級。專家指出，中國企業透過壯大本土供應鏈，不僅在國內市場取得穩定利潤，更加速了從材料、製程到終端產品的自主研發能力。
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《CNBC》周四 (22 日) 報導，荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML)(ASML-US) 耗時近十年打造的新一代高數值孔徑極紫外光曝光機 (High-NA EUV)，正在悄悄重塑全球晶片製程。這台全球最先進、造價超過 4 億美元的晶片製造機器，體積堪比雙層巴士，目前已進入實際量產階段，服務台積電 (TSM-US)(2330-TW)、三星與英特爾 (INTC-US) 等全球頂尖晶圓廠。