微影

05-29

Nikon擬以低價晶片設備挑戰ASML

根據《日經新聞》報導，Nikon 正試圖重返半導體微影設備市場，並計劃以低於 ASML(ASML-US) 的價格搶市。Nikon 新任社長 Yasuhiro Ohmura 表示，即使採取低價策略，微影設備業務仍具有充足獲利空間。他也指出，公司正尋求降低對英特爾 (Intel)(INTC-US) 訂單的依賴。

04-23歐亞股

中東局勢掀缺料風暴！日本光刻溶劑PGME/PGMEA短缺 三星SK海力士面臨停產危機

受中東局勢導致荷姆茲海峽航運受阻及日本石腦油供應中斷影響，光刻核心溶劑 PGME/PGMEA 出現短缺。南韓媒體《THE ELEC》今 (23) 日報導，日本信越、JSR、東京應化等廠商已向南韓晶片巨頭三星、SK 海力士通報採購中斷，波及光阻、底抗反射層 (Bottom Anti-Reflective Coating) 及旋塗式硬遮罩 (Spin-On Hard Mask) 等關鍵微影製程原料生產，引發市場對南韓晶片生產恐遭衝擊的憂慮情緒。