英特爾花41億美元投資設備廠ASML 催生新一代製造技術

美國半導體巨擘英特爾 (Intel)(INTC-US) 周一 (9 日) 宣布，將投資 41 億美元於荷蘭半導體製造微影設備大廠 ASML (艾司摩爾)(ASML-NL)，展現投入下一代晶片製造技術的企圖心。

根據兩公司聲明，英特爾最多將支出 31 億美元，買進15% 的 ASML 股份；另將投資 10 億美元於 ASML 研發工作。另一方面，ASML 也將向其他客戶尋求財務支援，以支應耗資龐大的新一代技術研發。

英特爾表示，這項投資計畫，將有助整體晶片製造產業盡快享受到更先進的製造技術；而對英特爾而言，則將藉此領先同業搶得製造優勢，生產出功率更佳的晶片產品，進而加速打入智慧手機及平板電腦市場。

ASML 是全球最大半導體微影設備供應商，這類設備專門處理晶圓製造當中的蝕刻工作。現有技術機器每台估計造價 6000 萬美元，但 ASML 及對手現在正努力投入新一代的極紫外光 (EUV) 技術，每台機器預估造價高達 1 億多美元。

同一時間，英特爾等晶片製造商也紛紛投入更大尺寸的晶圓生產，由 12吋進入 18 吋領域，以拉低晶片製造成本。這使得 ASML 等製造設備供應商必須大增支出，來生產出相符的製造設備。

英特爾稱今日投資 ASML 行動，將令 EUV 技術及 18 吋晶圓製造設備推出時間加快 2 年之多。而《路透社》引述分析師指出，這樣的計畫雖然需要密集的資本投資，但在未來可節省數十億美元支出。

英特爾將先支出 21 億美元，買進 10% 的 ASML 股份；等到後者股東同意發行更多股票，再加碼入股 5%。

英特爾股價收盤連續線圖