高數值孔徑極紫外光曝光機

08-07美股雷達

根據路透周三 (7 日) 報導，全球頂級半導體研發公司之一的比利時微電子研究中心 (imec) 宣布，其與艾司摩爾 (ASML)(ASML-US) 的聯合實驗室在電腦晶片製造方面取得多項突破。該實驗使用的是艾司摩爾最新的高數值孔徑極紫外光曝光機 (High-NA EUV)，該設備價值高達 3.5 億歐元 (3.82 億美元)。