GAA技術
為重振昔日半導體巨頭輝煌,英特爾 (INTC-US) 全力將重點放在全新先進製造工藝「18A」上,預計於今年下半年正式上市。業界專家與華爾街分析師普遍認為, 18A 製程將成為英特爾重新奪回全球晶片市場領先地位的「最後希望」。英特爾 18A 首度採用 RibbonFET 環繞式閘極(GAA)與背面供電兩大創新技術,能更精準地控制晶片內部電流,改善電源供應結構,有效提升效能與降低能耗。
2025-05-17
為重振昔日半導體巨頭輝煌,英特爾 (INTC-US) 全力將重點放在全新先進製造工藝「18A」上,預計於今年下半年正式上市。業界專家與華爾街分析師普遍認為, 18A 製程將成為英特爾重新奪回全球晶片市場領先地位的「最後希望」。英特爾 18A 首度採用 RibbonFET 環繞式閘極(GAA)與背面供電兩大創新技術,能更精準地控制晶片內部電流,改善電源供應結構,有效提升效能與降低能耗。