台積進擊10奈米、Intel心驚！ASML笑納EUV設備大單

MoneyDJ新聞 2015-04-23 記者 郭妍希 報導

歐洲半導體設備業龍頭艾司摩爾(ASML Holding NV)22日發布新聞稿宣布，美國某大客戶已經下單，至少會訂購15台極紫外光(EUV)微影設備，以便支援日益增多的研發作業和未來世代製程技術的試產方案。

ASML宣稱，最初兩台NXE:3350B EUV系統預計今(2015)年底前就能交貨，這些設備將加入客戶自身已有的EUV研發系統行列。ASML執行長Peter Wennink說，EUV微影設備已接近大量普及的階段。

費城半導體指數成分股ASML 22日聞訊跳漲10.29%、收107.81美元，漲幅居30支成分股之冠，創3月24日以來收盤新高。

彭博社報導，英特爾(Intel Corp.)是ASML在美國的最大客戶。ING Bank NV分析師Robin van den Broek在接受專訪時指出，這明顯是英特爾想要在7奈米製程技術中導入EUV設備，而假如以正常的報價計算，這筆訂單的金額將高達15億歐元；也就是說，英特爾已將一筆為數不小的資金投入了7奈米製程科技。

den Broek還說，ASML另外兩家大客戶分別是三星電子(Samsung Electronics Co.)與台積電(2330)，他認為這兩家業者也會跟進導入EUV。

barron`s.com報導，Cowen & Co.分析師Timothy Arcuri 22日隨即發表研究報告指出，台積電正在積極推進10奈米製程，且研究顯示該公司的進度還不錯。相較之下，英特爾的10奈米進度則略為延遲，而該公司為了保持製程上的領先，可能會被迫加速研發7奈米，進而向ASML買進設備。

台積電共同執行長劉德音曾在4月16日表示，旗下的10奈米製程已獲十個客戶採用、預定明年第4季就能量產，而10奈米製程產能會在2016年與2017年期間布置完畢。另外，台積電也已開始研發7奈米製程技術，預計2017年就進入最後試產階段的風險生產(Risk Production)。

國際半導體設備材料協會(SEMI)甫於4月21日公佈，2015年3月北美半導體設備製造商接單出貨比(Book-to-Bill ratio)初估為1.10，連續第3個月高於1.0，並且創下2014年6月以來新高。1.10意味著當月每出貨100美元的產品就能接獲價值110美元的新訂單。

華爾街日報報導，英特爾4月14日宣布將2015年資本支出預算自100億美元(加減5億美元)降至87億美元(加減5億美元)。兩天後，台積電也宣布下修今年資本支出、幅度達9%。根據Pacific Crest的統計，全球三分之二的半導體資本支出集中在英特爾、三星以及台積電這三家廠商。

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