將採用EUV生產記憶體? 美光:目前沒有計畫

美光(Micron)企業副總裁暨台灣美光董事長徐國晉。(鉅亨網記者林薏茹攝)
美光(Micron)企業副總裁暨台灣美光董事長徐國晉。(鉅亨網記者林薏茹攝)

美國記憶體大廠美光 (Micron) 企業副總裁暨台灣美光董事長徐國晉今 (7) 日表示,美光在台 A3 廠進度符合預期,第四季將完工;對於是否會採用 EUV(極紫外光) 生產記憶體,他則回應,目前沒有計畫,現有技術也可達到一樣的效果。

美光在全球共 13 個製造廠區,已成功將智慧製造導入新加坡與台灣等廠區,主要以前段晶圓製造為主,目前也積極導入後段封測廠,台灣後段封測廠已達到高度自動化生產。

美光目前在台灣有 2 座晶圓廠,主要生產 DRAM,台中有後段封測廠及高階封裝研發。對於 A3 廠建廠進度,徐國晉表示,雖然今年受疫情影響,但建廠計畫仍順利進行,也透過 AR 與 VR 技術,以遠距專業支援,建廠符合進度,預計第四季完工。

美光目前在台灣製程技術中,最先進的是 1z 奈米,A3 廠導入 1α奈米製程後,將成為其在台最先進的 DRAM 製程技術;徐國晉也說,未來在台灣將提供 1α、1y、1z 等三種製程技術,不會因導入 1α奈米製程就淘汰 1y。

由於三星可能在明年導入 EUV(極紫外光) 技術生產記憶體,外界關注美光是否也會跟進,對此,徐國晉表示,目前沒有計畫採用 EUV,以現有浸潤式微影設備配合其他製程,可達到一樣的效果。


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