中微半導體

02-12

5年內成勁敵！艾司摩爾技術長預警：中國在用一種我們無法阻止的方式前進

光刻機巨擘艾司摩爾技術長 Martin van den Brink 在內部評估中嚴厲警告，中國半導體技術突破速度遠超西方預期，五年內恐成艾司摩爾最強競爭對手，因為在美國技術封鎖下，中國正建構自主可控的半導體產業鏈循環。2018 年，某中國企業斥資 1.2 億美元訂購艾司摩爾極紫外光刻機 (EUV)，交貨前夕遭美國施壓攔截，此舉反而激發中國自主創新浪潮。