光阻劑
台股新聞
佳能想用NIL技術挑戰EUV ，台積電、聯電 、光罩將有機會受惠
〈奈米壓印微影技術與三大曝光機廠〉日本半導體設備大廠佳能 (Canon) 在 10 月 13 日宣布開賣採用奈米壓印 (Nano-imprint Lithography，NIL) 技術的微影設備 FPA-1200NZ2C，Canon 表示奈米壓印微影設備可用來生產現行最先進的 5 奈米記憶體晶片，期望改良後可進一步用來生產 2 奈米產品，試圖挑戰半導體設備龍頭廠艾司摩爾 (ASML-US) 的地位。
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佳能想用NIL技術挑戰EUV ，台積電、聯電 、光罩將有機會受惠
〈奈米壓印微影技術與三大曝光機廠〉日本半導體設備大廠佳能 (Canon) 在 10 月 13 日宣布開賣採用奈米壓印 (Nano-imprint Lithography，NIL) 技術的微影設備 FPA-1200NZ2C，Canon 表示奈米壓印微影設備可用來生產現行最先進的 5 奈米記憶體晶片，期望改良後可進一步用來生產 2 奈米產品，試圖挑戰半導體設備龍頭廠艾司摩爾 (ASML-US) 的地位。