光刻機
歐亞股
荷蘭光刻機龍頭 ASML 正處於輝煌與挑戰並存的關鍵轉折點。儘管身為半導體產業鏈中無可取代的「賣鏟人」，憑藉極 EUV 技術壟斷全球市場，但在繁榮的表象下，一系列內部組織動盪、關鍵客戶策略轉向以及日益嚴峻的地緣政治風險，正交織成一場暗潮湧動的生存考驗。
科技
荷蘭光刻機巨擘艾司摩爾 (ASML-US) 正悄悄佈置下一代先進封裝賽道，韓媒《The Elec》周二 (28 日) 報導指出，南韓仁荷大學教授 Joo Seung-hwan 在首爾舉行的先進封裝技術會議上透露，透過分析專利發現，艾司摩爾可能正利用其旗艦光刻平台 Twinscan 的技術積累，研發晶圓對晶圓 (W2W) 混合鍵合設備。
美股雷達
根據摩根士丹利 (下稱大摩) 最新發布的 2026 年科技業展望報告，AI 浪潮遠未熄火，但行情的推進將不再是單邊上漲，而是在上下半場呈現截然不同的節奏。報告指出，今年上半年，市場將延續 2025 年以來的 AI 基礎設施投資熱潮，記憶體價格與大選後大宗商品的上行將構成順風順水，真正的考驗則在下半年，隨著晶圓代工、封測及記憶體成本的全面傳導，終端產品的「價格彈性」將被觸發。
歐亞股
《華爾街日報》(WSJ)周四 (23 日) 報導，荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 股價在歐洲盤中下跌約 3%，市值一度蒸發約 143 億歐元 (約 168 億美元)，主因台積電(2330-TW)(TSM-US) 表態暫無計畫採購其最先進的高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光設備，市場對高階製程設備需求前景出現疑慮。
歐亞股
在上海舉行的 SEMICON China 2026 展會上，日本光學巨頭尼康（Nikon）成為焦點。面對全球半導體設備市場劇變，尼康宣布加大對中國市場投入，並提高設備供應優先順序。此舉不僅被視為其在業務低迷下的自救策略，也被解讀為藉中國市場缺口，正面挑戰美國出口管制、力圖重返產業高峰的關鍵布局回顧尼康近年來的財報，這家曾經的光刻機霸主正經歷著前所未有的陣痛。
科技
2026 年初，日本百年光學巨頭尼康 (Nikon) 發布 2025 財年預虧 850 億日元，創史上最大虧損紀錄，尤其令人觸目驚心的是，過去半年尼康光刻機僅賣出 9 台，且幾乎全為成熟製程設備，遠遜於艾司摩爾同期高端 EUV 光刻機 160 台出貨量，這一表現也反映出昔日霸主在半導體核心戰場的全面潰敗。
美股雷達
全球光刻機巨擘艾司摩爾 (ASML-US) 在創下 327 億歐元年度營收新高之際，卻陷入嚴重的人力資源困境，元月宣布裁員 1700 人，主要涉及荷蘭總部 1400 個職位和美國 300 個職位。此舉正值艾司摩爾啟動重組計劃，意在精簡技術與 IT 部門管理層級。
美股雷達
隨著 AI 投資熱潮席捲全球科技業，一個關鍵問題正引發業界關注：在資本、技術、資源不斷湧入的背景下，真正限制 AI 算力擴張的環節究竟是什麼？半導體分析機構 SemiAnalysis 創辦人 Dylan Patel 在一場播客訪談中給出答案。
大陸政經
中國全國人民代表大會召開之際，《南華早報》報導指出，中國多家半導體龍頭企業高管與學界人士聯名發文，呼籲舉全國之力打造中國版光刻機巨頭艾斯摩爾，以應對美國不斷收緊的科技封鎖，並敦促業界「丟掉幻想，準備鬥爭」。《路透社》指出，該文主張在「十五五」期間透過國家協同開發可實際運作的光刻系統，體現了中國推動高水準科技自立自強的政策方向。
A股港股
儘管美國與荷蘭政府持續加強對先進半導體設備的出口管制，2025 年最新的財報數據卻呈現出令市場意外的結果—中國依然是 ASML 全球最大的買家。在極紫外光 (EUV) 與先進浸潤式深紫外光 (DUV) 曝光機 (光刻機) 遭到禁售的情況下，中國企業透過對成熟製程設備的「買買買」，支撐了 ASML 近三分之一的銷售額。
歐亞股
光刻機巨擘艾司摩爾技術長 Martin van den Brink 在內部評估中嚴厲警告，中國半導體技術突破速度遠超西方預期，五年內恐成艾司摩爾最強競爭對手，因為在美國技術封鎖下，中國正建構自主可控的半導體產業鏈循環。2018 年，某中國企業斥資 1.2 億美元訂購艾司摩爾極紫外光刻機 (EUV)，交貨前夕遭美國施壓攔截，此舉反而激發中國自主創新浪潮。
國際政經
中國在晶片產業方面的快速發展讓美國商務部長盧特尼克 (Howard Lutnick) 大嘆「千金難買早知道！」盧特尼克強調，美國早期的出口管制存在漏洞，僅封鎖了中國的極紫外光（EUV）光刻機，導致中國企業能夠採購大量未受限的深紫外光（DUV）光刻機及相關耗材，這些進口設備使得中國製造出了先進的晶片。