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精實新聞 2014-01-16 18:55:07 記者 王彤勻 報導
劉德音表示,台積因16/20奈米有90%的機台設備都可相容,因此在學習曲線上也更為理想,甚至目前16奈米FinFET製程的良率改善飛快,已經接近20奈米製程的良率。此外,台積於16奈米也已取得超過20個設計定案,且產品範圍囊括基頻、AP應用處理器、網通、繪圖晶片、CPU、伺服器等。台積也預定16奈米製程量產的時間點,將落在20奈米之後一年的2015年,這個速度可望較三星更快。
而劉德音也特別指出,台積多數時候雖不評論對手,不過台積16奈米製程量產的時程雖略緩於英特爾,惟台積的16奈米製程相較於20奈米可望再達成15%的晶片面積微縮效果,加上考慮到擁有大同盟夥伴(Grand Alliance)的相挺,擁有豐富的IP優勢,且不與客戶競爭,因此雖然台積16奈米FinFET製程相較於英特爾的14奈米製程,進展「看起來有點落後」,不過台積對於其16奈米製程在行動通訊領域的競爭力,仍相當有信心。
劉德音也直言,台積確實看到EUV(極紫外光)於成本上的優勢,最快可能會在10奈米製程起用。惟因成本問題,台積目前在建造18吋超大晶圓廠上還沒有時間表。
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