關鍵EUV微影技術將到位 Intel矢言7奈米回歸摩爾定律

MoneyDJ新聞 2016-03-03 記者 陳瑞哲 報導

台積電（2330）目前積極搶攻10奈米市場，但對於半導體龍頭英特爾（Intel）而言，7奈米可能才是下一個主戰場。

英特爾自14奈米起，研發速度就落後摩爾定律半年，使得14奈米的生命週期延長至2年半，下一世代10奈米處理器Cannolake上市時間則延後至明年下半年，確定將被台積電超越。

不過據itworld.com報導，據英特爾財務長史密斯（Stacy Smith）本周表示，英特爾已鎖定在7奈米回歸到摩爾定律規範的兩年週期，因為屆時科技將有重大突破。

英特爾能否兌現承諾的關鍵在於新一代極紫外光（EUV）微影技術，而EUV機台目前還沒有，預估必須等到7奈米才會問世。史密斯表示，14奈米目前是透過多重曝光（multiple patterning）微影設備生產，但這項技術已遇到瓶頸，無法再進一步縮小晶片線寬。

英特爾除了機具上的革新外，也在考慮採用新材料氮化鎵（Gallium Nitride）來取代矽，因為氮化鎵導電與處理效能都比矽優異，電源管理晶片與其它元件將可優先導入。

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