蘋果20週年紀念「iPhone XX」傳聞一次看：全玻璃設計、2奈米晶片與螢幕下Face ID

儘管距離蘋果 (AAPL-US) 在 2027 年推出 iPhone 20 週年紀念版還有兩年，但外界已傳出不少關於「iPhone XX」的相關消息。從設計、晶片、相機到顯示技術，這款象徵里程碑的機型，可能帶來 iPhone 歷史上最大幅度的革新。

根據《MacRumors》報導，延續過去跳號傳統，蘋果曾在 2017 年從 iPhone 8 跨至 iPhone X（10）。因此，2027 年的紀念版有望直接跳過「iPhone 19」，以「iPhone 20」或「iPhone XX」命名，象徵 iPhone 的 20 週年新篇章。

消息指出，蘋果長期的設計願景「一塊純玻璃的 iPhone」可能在 2027 年實現。這款 iPhone XX 預期將取消所有邊框與開孔，呈現真正「無邊框」的全螢幕視覺體驗。

據傳，蘋果正開發一種可延伸至機身側邊的曲面顯示器，讓螢幕完全包覆邊框。這種創新設計雖精細但脆弱，可能影響保護殼設計。

不過，蘋果已提升耐用性，現有機型採用更堅固的 Ceramic Shield 2 玻璃，具備抗刮與防摔特性。

為達到全玻璃外觀，蘋果勢必移除「動態島」與前鏡頭開孔。顯示器分析師 Ross Young 指出，螢幕下 Face ID 技術或將在 2027 年問世，若進度延遲，蘋果也可能採用「螢幕下 Face ID + 小孔前鏡頭」的過渡設計。

同時，20 週年版 iPhone 將採用三星最新 COE（Color Filter on Encapsulation）OLED 面板，捨棄傳統偏光膜，讓螢幕更薄、亮度更高且能耗更低。

蘋果預計透過升級抗反光塗層與「火山口形擴散層」技術，維持亮度均勻與清晰度。

傳聞顯示，蘋果將為 iPhone XX 採用客製化 HDR 感光元件與可變光圈鏡頭。新感測器可同時捕捉高光與暗部細節，提供高達 20 級動態範圍，堪比專業電影攝影機，標誌著 iPhone 攝影的又一次飛躍。

蘋果預計在 2027 年全面採用自家設計的 C1 與 C1X 數據晶片，取代高通方案，以提升硬體整合性與 AI 處理效能。

屆時，20 週年 iPhone XX 將搭載 2 奈米製程 A21 晶片，由台積電 (2330-TW) 生產，帶來更快的網路連線、更佳的電池續航與強大的人工智慧運算能力。