韓媒:晶片巨頭SK海力士計劃進行中國工廠升級
鉅亨網新聞中心 2024-01-15 16:00
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據韓媒近日報導,晶片巨頭 SK 海力士準備打破美國對華極紫外光(EUV)曝光機出口相關限制,進行旗下中國半導體工廠技術提升。
外界解讀,隨著半導體市場復甦以及中國高性能半導體製造能力提升,一些南韓晶片企業準備採取一切可以使用的方法,提高在華工廠製造工藝水準。
據南韓《首爾經濟》報導,南韓業界人士表示,SK 海力士計劃今年將中國無錫廠部分 DRAM 生產設備提升至第四代 10 奈米工藝。
無錫廠是 SK 海力士的核心生產基地,產量約佔其 DRAM 總產量 40%。目前無錫廠正在生產兩款較舊的 10 奈米 DRAM。
《首爾經濟》指出,SK 海力士要進行無錫廠技術升級並不容易,因為美國為阻止中國半導體產業崛起,2019 年就開始單方面限制中國取得製造尖端半導體的 EUV 曝光機。
隨著全球半導體市場復甦,SK 海力士認為,高性能晶片產能擴張刻不容緩,需要 10 奈米級第四代 DRAM 或更高版本產品,以維持市占率。
SK 海力士總裁郭魯正出席 CES 時表示:「我們自去年以來就地緣政治問題組建了內部工作組,相信企業風險由此得到很大程度的緩解。」
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