東芝/Canon傳攜手研發15nm NAND Flash 2015年量產
鉅亨網新聞中心 2014-02-27 08:19
精實新聞 2014-02-27 記者 蔡承啟 報導
報導指出,東芝、Canon將攜手研發的技術為被稱為「奈米壓印(Nanoimprint)」的次世代半導體露光技術,雙方幹部並已就上述合作一事展開協商,且並計劃於東芝的四日市工廠內導入Canon的先端製造設備以進行研發,至於研發費用的分擔等細節則預估將在今年內敲定並對外發表。
東芝正和南韓三星電子(Samsung Electrocnis)爭奪NAND Flash市佔首位寶座,東芝並計劃於今年夏天開始生產採用16-17nm製程技術的NAND Flash產品(目前最先端產品為19nm)。
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