荷蘭擴大ASML曝光機出口管制 北京怒：堅決反對

荷蘭政府上周五（6 日） 以國安風險為由，公布新的出口管制規定，擴大半導體設備大廠 ASML 的出口限制，中國商務部對此在周日發表聲明，表示堅決反對。

根據荷蘭政府於上周六生效的新規定，ASML 現在需要向政府申請出口許可，才能向中國提供 2 款深紫外線曝光機（DUV）。

ASML 是全球唯一生產尖端曝光機的製造商，這些曝光機可用於生產電動車、軍事裝備等用途所需要的高階晶片。

中國商務部周日對此表示，近來中荷雙方就半導體出口管制問題展開多層級、多頻次的溝通磋商。荷方在 2023 年半導體出口管制措施的基礎上，進一步擴大對曝光機的管制範圍，中方對此表示不滿。

中方說，近年來，美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體供應鏈穩定，嚴重損害相關國家和企業的正當權益，中方對此堅決反對。

中國商務部強調，荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體供應鏈穩定。