汎銓營運報捷 取得導電膠、原子層導電膜專利

圖中為汎銓董事長柳紀綸、右一技術長陳榮欽、左一營運長廖永順。(業者提供)
圖中為汎銓董事長柳紀綸、右一技術長陳榮欽、左一營運長廖永順。(業者提供)

材料分析廠汎銓 (6830-TW) 今 (23) 日宣布,取得「導電膠」與「原子層導電膜」兩個專利新工法,加上先前已取得的「低溫原子層鍍膜」專利,已建構三大材料分析專利,築起先進製程材料分析競爭力的高牆。

汎銓表示,隨著電晶體尺寸達奈米等級,材料分析的技術難度、精準度要求日益增加,由於過去 1 奈米的損傷,並不影響製程判讀,但隨著製程邁入 2 奈米,些微量測差距都可能導致分析失準,也讓產業進入門檻提高,如何達到無損傷分析,成為材料分析業界面對的共同課題。

汎銓多年來致力於降低分析誤差,如何在分析過程中保護目標,並在取樣過程中呈現樣品最真實原貌,以保留微小製程差異,公司也超前佈署研發出各項分析工法,並透過取得專利,建構競爭城牆。

汎銓進一步表示,公司所開發的「低溫原子層鍍膜」專利,對敏感材料,包括 EUV 光阻、LK 材料等,皆有很好的保護效果,有助提高分析的精準度,此低溫原子層鍍膜系統,能夠製備最嚴苛的 TEM(穿透式電子顯微鏡) 樣品,甚至在最脆弱的光阻或高分子樣品上得到驗證。

再者,材料分析仰賴的高解析度電子顯微鏡,常因電荷累積而產生誤差,汎銓也開發出 2 個專利新工法來應對,「導電膠」與「原子層導電膜」成功有效將電子顯微鏡中多餘的電荷導出試片、降低損傷,對於新一代含金屬的 EUV 光阻或是其他能量敏感材料,也能發揮其強大的保護力,目前已應用在最先進的製程上。


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