奈米壓印

12-18歐亞股

挑戰ASML壟斷！日本奈米壓印瞄準1.4奈米 成本不到EUV十分之一

大日本印刷株式會社（DNP）宣布，他們已成功開發出一款線寬僅 10 奈米的奈米壓印微影（Nanoimprint Lithography, NIL）模板，並宣稱，此項技術具備支援未來 1.4 奈米製程等級邏輯晶片圖形化的能力，並有望在特定應用領域取代目前由 ASML 獨家壟斷的昂貴 EUV 製程。

12-03A股

中國晶片沒有艾司摩爾也沒關係？SemiAnalysis：佳能奈米壓印技術可挑戰EUV曝光機

美國半導體技術機構 SemiAnalysis 報告指出，日本佳能（Canon）的奈米壓印（Nanoimprint Lithography）技術在國際半導體領域被視為「可匹敵甚至超越 EUV 曝光機的能力」，或成為中國晶片突破的關鍵。分析指出，理論上，奈米壓印可達到甚至超過 EUV 的曝光分辨率，而且設備製造成本遠低於 EUV 曝光機。