【盤中熱點】IP矽智財均漲3%多頭回來了？IC製造四大流程介紹

一、指數上漲約 150 點，創意上漲 4.19% 創新高，矽智財族群再度帶領大盤？

在費半強漲 2.6% 的帶動下，本日指數開低走高，當前上漲約 150 點，再度挑戰月線 14659 關口，預估量為 1992 億。

盤面上來看，貢獻指數漲點的多方之標依序為

(2330-TW) 台積電、(2454-TW) 聯發科、(2317-TW) 鴻海、(2303-TW) 聯電、(3711-TW) 日月光投控。

造成盤勢壓抑的則為

(3008-TW) 大立光、(2360-TW) 致茂、(8046-TW) 南電、(1605-TW) 華新、(2890-TW) 永豐金

就漲跌點來看，隨著費半強彈也帶動本日半導體相關類股普遍有較佳的表現，這也是當前指數走強的關鍵因素。

值得注意的是，今在國際股市氛圍加的背景下，(3443-TW)創意盤中一度觸及 800 大關創下掛牌新高，(3661-TW)世芯 - KY 同步走強站上 900 大關，其餘矽智財族群如 (3035-TW) 智原、(3529-TW)力旺、(6643-TW)M31、(6533-TW)晶心科等個股普遍也皆有 2% 以上的漲幅，也顯示當前市場樂觀情緒增溫，高成長的矽智財族群走強，可望帶動多方行情的延續。

2. 消息面激勵政策利多股均漲 5%，但當前開高走低

盤前提及，行政院會昨 (8) 日通過經濟部擬具的「再生能源發展條例」修正草案，內容包括未來新建案屋頂要有太陽光電、同時離岸風電也刪除不超過領海的範圍限定，帶動能源相關概念股如 (6443-TW) 元晶、(6244-TW)茂迪、(3576-TW)聯合再生、(6477-TW)安集、(9958-TW)世紀鋼、(3708-TW)上緯投控等太陽能、風電族群在本日盤面走強，但當前大多個股皆有出現漲幅收斂，甚至收黑的情況，顯示本日可能只是因消息面帶動，因此未來行情能否持續，就是須關注的焦點。

二、生活聊產業 －IC 光罩與製造
 

先前提及 IC 設計有如建築物的設計圖，負責規畫及分配每個區域的功能，但也因 IC 設計並無實體設計概念，因此對其的智慧財產權保障就稱為「矽智財」

而在設計圖設計完成後，接下來的步驟即為 IC 製造，將設計圖變成我們所見的晶片，而這就是護國神山台積電的強項。

如上圖所示，一顆晶片的誕生是需要經過非常多道程序，

主要有四大流程，分別是 添加製程、移除製程、熱處理製程、圖案化製程。

添加製程即為在半導體上產生一層介電質或薄膜沉積。

移除製程是使用化學或物理方法移除晶圓上的物質。

熱處理製程是將晶圓加熱到特定溫度已達物理和化學反應的要求。

圖案化製程則是添加移除與加熱技術，將光罩上的電路設計圖轉印到晶片上。

反覆這四項流程，最終就會形成晶片。

整個流程中牽涉到各式製造設備，當中又以圖案化製程中需使用的的 EUV 光刻機設備最為重要。

該設備主力供應商各位也不陌生，即為新聞上常見的荷蘭大廠艾司摩爾 (ASML)

為什麼 EUV 光刻機如此重要？　因為它半導體工藝演進的最大推手

接下來我們就來聊聊 EUV 光刻機在半導體製造中扮演怎麼樣的角色。

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