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    2025-09-26
  • A股港股

    在美國持續升級的技術制裁下,中國半導體產業的自主化進程傳關鍵突破。據《金融時報》報導,上海新創公司宇量昇已成功研發出一款 28 奈米深紫外光(DUV)曝光機,目前正由中芯國際進行測試。 據報導,該設備在技術上與荷蘭半導體巨頭 ASML 的浸潤式 DUV 光刻機相似,並能利用「多重圖形技術」來生產 7 奈米製程的晶片。