CMP耗材
台股新聞
2026年08月12日(優分析/產業數據中心報導)⸺ 隨台積電先進製程從 N2世代持續朝具備背面供電技術的 A16,以及下一世代 A14平台推進,製程複雜度提高正為半導體耗材供應商帶來新的成長機會。中砂(1560-TW)在最新法說會表示,一般 N2在未導入晶背供電時,這一段製程約有50 幾道,導入 A16晶背供電後則增加至70 幾道,顯示先進製程對 CMP相關耗材的需求,除了受到晶圓投片量帶動之外,另一個越來越重要的驅動力,也與單片晶圓所需的製程步驟增加有關。
國際政經
2026年04月20日(優分析/產業數據中心報導)⸺ 隨著半導體產業持續推進先進製程,化學機械平坦化Chemical Mechanical Planarization,簡稱CMP,市場規模也同步擴大。SNS Insider預估,CMP市場在2025年為66.5億美元,到2035年將增至132.3億美元,2026年至2035年的年複合成長率為7.12%。
台股新聞
2026年04月14日(優分析/產業數據中心報導)⸺ 在AI伺服器、高效能運算與先進封裝需求升溫帶動下,半導體關鍵耗材CMP研磨墊產業再現擴產訊號。Fujibo Holdings(3104-JP)宣布,將投資約53億日圓,在大分工廠新建廠房擴充產能,預計2029年啟用。
2026-08-12
2026-04-20
2026-04-14