微影

03-19歐亞股

半導體設備大廠 ASML(艾司摩爾) 近日交貨第三代標準型極紫外 (EUV) 光微影設備 (光刻機)，設備型號為 Twinscan NXE:3800E，配備了 0.33 數值孔徑透鏡。 相較於之前的 Twinscan NXE:3600D，效能有了進一步的提高，可以支援未來幾年 3 奈米及 2 奈米晶片的製造。