蔡司
艾司摩爾(ASML)(ASML-US)與其光學合作夥伴蔡司(Carl Zeiss)的工程師在一篇經過同行評審的論文中表示，ASML現有最先進晶片製造設備的後繼技術，可能在約10年內準備就緒。論文指出，這項名為「Hyper NA」的設備將能製作更微小的電路，同時重複利用兩家公司現有的大部分技術，但仍有一些挑戰需要克服。
美股雷達
艾司摩爾(ASML-US)與光學合作夥伴蔡司(Carl Zeiss)的工程師，在一篇同儕審查論文中指出，接替目前最先進曝光機的「Hyper NA」技術，可能約十年後準備就緒，可印製更微小的晶片電路，並沿用大量既有技術，但仍有挑戰待克服。據《路透》周四(8日)報導，艾司摩爾已開始研發Hyper NA，但尚未承諾投入生產，也未立即回應置評要求。
美股雷達
艾司摩爾(ASML-US)極紫外光(EUV)微影機光學元件獨家供應商、德國蔡司集團(Zeiss Group)表示，中國在開發最先進晶片製造設備方面，大約落後15年。蔡司集團半導體事業負責人Frank Rohmund接受彭博電視訪問時表示，北京要開發出EUV微影機，大約還需要15年，這是「合理的推測」，不過他也坦言，中國在這方面的實際進展難以量化。
歐亞股
德國蔡司集團(Zeiss)半導體製造技術事業部總裁Frank Rohmund近日表示，身為艾司摩爾EUV光學系統唯一供應商，蔡司具備充足且可彈性擴充的產能，足以消化雲端巨頭持續投入AI基建帶動的先進晶片需求，今年半導體事業料將顯著增長。蔡司上月底宣布，該公司在德國南部奧伯科亨(Oberkochen)總部新增約2.5萬平方公尺生產及配套空間，員工在8月遷入這個歷時四年完成的新空間，餘屋分階段交付。
台灣政經
經濟部政務次長江文若率團赴德國招商，成功鎖定半導體材料、設備及光學領域的國際關鍵技術領導廠商。成功促成蔡司、德芯兩大德商在半導體先進材料、在地研發及快速驗證等領域展開後續合作對話，並強化未來在台灣的投資規劃。為吸引國際關鍵技術領導廠商擴大在台灣投資，經濟部政務次長江文若於 6 月 24 日至 26 日率領投資司、技術司及產業技術專家赴德國，鎖定半導體材料、設備及光學領域進行精準招商。